「光跡追蹤」對話方塊

提供增強的視覺化體驗，可讓您製作設計的擬真視圖時，降低對單獨的彩現環境的需求。

存取方式

在「檢視」頁籤 「外觀」面板上，按一下「光跡追蹤」

彩現模式定義

模式	交互	好	最好
最大漸進式迭代數	4	16	64
環境光遮蔽	遵循「環境陰影」使用者介面設定；「打開」或「關閉」	遵循「環境陰影」使用者介面設定；「打開」或「關閉」	遵循「環境陰影」使用者介面設定；「打開」或「關閉」
總體照明	永遠關閉	永遠關閉	遵循環境光遮蔽設定
IBL 方法	僅限環境光	來自環境的實際照明	來自環境的實際照明

光跡追蹤控制

摺疊/展開	按一下該箭頭可收闔彩現模式區段。將游標移至列標題區域可展開模式區段。
模式	顯示三個彩現模式選項。按一下單選鈕可使用一個選項。預設為「交互」。選取其他模式會中止光跡追蹤過程，然後使用選取的模式設定重新開始。
進度	根據彩現模式顯示顯示細分的進度。顯示已完成的百分比及消耗的時間。
暫停	在目前的細分狀態下中斷光跡追蹤過程。按一下「繼續」可繼續光跡追蹤過程。變更視圖方位或設定會導致光跡追蹤過程重置並重新開始。
停用	中止光跡追蹤過程。關閉光跡追蹤介面。

可啟用光跡追蹤的視覺型式：

視覺型式	選取時的光跡追蹤預設情況
擬真	自動啟用。
單色	停用，可透過功能區存取點手動啟用。