这是启用全局照明的主要控件。
“全局照明”(Global Illumination) (GI) 系统使您可以使用两种独立的算法来计算间接照明。
例如，可以使用快速算法（例如“路径跟踪器”(Path Tracer)）计算多个灯光反弹，而且仍可以使用“最终聚集”(Final Gather)计算最终反弹来获得快速、高质量的全局照明渲染。两种子系统可以单独控制 Intensity 和 Saturation 以根据需要增强效果。
还可以将 Primary GI 和 Secondary GI 设置为 None。对于 Secondary GI，当不需要更深入的间接灯光时或者您具有无法使用 Secondary GI 的 Primary GI 时，请使用 None。当烘焙执行其自己的聚集（例如不使用发光缓存时的 Radiosity Normal Map 和 Lua 过程）的高级过程时，为主全局照明使用“无”(None)。在这些过程执行自己的聚集时，仅对 Secondary GI 进行采样，从而使得所有主全局照明不起作用。
从下列算法中选择：
这是一种强力 GI 方法，用于通过围绕着色点以半球形式发送光线来计算 GI。此方法不使用缓存，因此会针对每个着色点执行新的计算。这种方法为次反弹采用重要性采样方法，因此可以使用大量的反弹而不会大幅增加渲染时间。“Monte Carlo”方法没有偏移，并且在作为“主 GI”(Primary GI)时可用于参考图像。此方法还可与“最终聚集”(Final Gather)一起用作“次 GI”(Secondary GI)，以生成多反弹的高质量结果，而不会发生灯光泄漏。
Path Tracer 算法通过跟踪从摄影机摄入场景的（高）光线数量来计算间接照明。这些光线会反弹进入场景并得到进一步的跟踪，具体取决于它们所碰撞曲面的属性。具有较高漫反射反射比的曲面继续延伸光线路径的可能性越大，因此会为其他曲面提供更突出的色溢效果。该路径仅会在吸收概率足够高时才会终止。
光线反弹产生的照明存储在场景内的选定点处，从而会导致生成一组缓存点。缓存点间距参数用于设置缓存点之间的距离。距离越小，生成的缓存点越多，并且可以更好地捕获细节，但同时内存使用量和渲染时间也会增加。
预渲染过程完成后，路径跟踪器缓存将保存间接照明的近似。解决方案的质量取决于使用的路径数和缓存的密度。如果使用路径跟踪器解决方案作为“次 GI”(Secondary GI)，使用“最终聚集”(Final Gather)或辐射缓存作为“主 GI”(Primary GI)，则这些设置可以设置得很低，并且仍可以产生好的质量。
缓存点可以保存到贴图文件中，然后在后续的渲染中重用。请注意，文件选项“重用和细化”(Reuse and Refine)会从文件加载贴图，然后通过将路径从新的预渲染过程添加至缓存来优化解决方案。这样可通过每个连续的渲染优化该解决方案。
主要使用焦散光子贴图控制是否启用焦散。
调整第一次 GI 反弹的强度。
调整第一次 GI 反弹的饱和度。
调整次 GI 反弹的强度。
调整次 GI 反弹的饱和度。
调整焦散光子贴图的强度。
调整焦散光子贴图的饱和度。
GI 使用漫反射材质组件时用于增强这些组件的增益。可用于调整间接漫反射照明的量。例如，如果场景中包含非常暗的纹理，则该场景不会获得大量间接照明，但如果增强所有漫反射组件，则间接照明效果就会得到增强。
GI 使用高光材质组件时调整这些组件。可用于调整高光效果产生的间接照明的量。
GI 使用放射材质组件时调整这些组件。可用于调整放射效果产生的间接照明的量。
控制在全局照明使用钳制材质时是否要钳制材质以保持物理正确性。从下列选项中选择：
禁止材质钳制。
单独钳制每个 R、G 和 B 组件。
钳制强度（HSV 值）。
选择使用哪种缓存方法进行最终聚集。选择下列三个选项之一：
禁用缓存，并为每个着色点执行新的最终聚集。可以获得非常精确的结果，但渲染时间较长。用于（例如）参考图像。
（默认值。）在场景中的选定点处缓存辐照度，并在这些点之间使用插值。
在场景中的选定点处缓存辐射 SH 功能，并在这些点之间使用插值。当需要间接平行光时，辐射缓存在某些高级烘焙过程（例如光能传递法线贴图）中很有用。
设置要用于每个最终聚集采样点的最大光线数量。该数值越大，获得的质量越高，但渲染时间会越长。
设置最终聚集计算的间接光反弹的数量。值大于 1 将产生更多全局照明效果，但请注意，这可能会导致速度非常慢，因为光线数量将随着深度呈指数级增加。通常，最好使用快速方法获得次 GI。如果使用次 GI，则会首先计算设置的最终聚集反弹的数量，然后再调用次 GI。在大多数情况下，如果使用次 GI，会将此数量设为 1。
控制最终聚集针对预计算过程中各点之间的对比度差异的敏感度。如果对比度差异超过相邻点的该阈值，则在该区域内会创建更多点。这样，算法就会将点置于最需要它们的位置，例如，置于阴影边界处或是间接照明发生快速变化的区域。因此，该阈值可以控制在场景中相应地创建的点数。请注意，如果使用较少的最终聚集光线，则点数将会发生较大的变化，故而会出现较大的对比度差异，所以说为避免出现这种情况，您可能需要增加对比度阈值，以防点成束。
设置要在其间进行内插的最终聚集点的数量。值越高，效果越平滑，但同时也会消除很多细节。如果光随着该值的增大而穿过墙壁，可以检查样例的可见性来解决该问题。请参见下面的检查样例可见性。
环境光遮挡可用于促进阴影，以及在照明中提高对比度，通过它可以控制“最终聚集”(Final Gather)的缩放。该值控制环境光遮挡如何混合到“最终聚集”(Final Gather)解决方案中。
遮挡的最大距离。在该距离以外，光线将被视为无遮挡。可用于避免完全遮挡闭合的场景。
可用于调整环境光遮挡的对比度。增加该值可使亮曲面更亮，而暗曲面越暗。
遮挡值的缩放。可用于增强或减弱阴影效果。
启用后，将渲染单个环境光遮挡过程，以对 AO 效果进行可视化。所有其他渲染过程将被忽略。这有助于调节 AO 设置。
控制最终聚集针对各点之间差异的敏感度。较低的值会在高曲率的区域中产生更多的点。
控制如何在插值中使用辐照度渐变。每个点都存储其辐照度渐变，并可用于改善插值。但是在某些情况下，使用渐变可能产生白色“光晕”和其他瑕疵。可以使用此阈值减少这些瑕疵。
光线在被视为“丢失”之前可以跟踪的最大距离。这在非常大的场景中可以提高性能。如果将该值设置为 0.0，则使用整个场景。该距离以 Maya 单位进行测量。
启用后，最终聚集也将缓存来自光源的照明。这样的话，需要计算的直接光就较少了，从而可以提高性能。这样提供的是近似结果，因此可能会影响照明的质量。例如，镜面反射高光产生的间接光反弹可能会丢失。但是此缓存仅为大于 1 的深度执行，因此光照贴图中直接光和阴影的质量不会下降。
启用该选项可将采样值钳制为 [0, 1]。这将减少最终聚集与其他全局照明算法一起使用时的低频噪音。
启用此选项可以减少穿过墙壁的光线泄漏。当收集了要在其间进行内插的点后，其中某些点可能会位于几何体的另一侧。结果，光会通过几何体溢出。因此，为了避免这种情况的发生，Turtle 可以拒绝不可见的点。
为每个采样元素（像素、纹理或顶点）设置跟踪的路径数量。对于预览渲染，可以使用较低的值，如 0.5 或 0.1，这意味着半数像素或 1/10 的像素将生成路径。对于产品级渲染，可以使用值大于 1.0（如果需要）以获得较好的质量。
在“路径跟踪器”(Path Tracer)解决方案中设置平均反弹数量。最大深度为 40。深度越低，解决方案速度越快，但噪音会越大，不过整体强度会保持不变。灯光实际反弹至多远与您的材质有很大关系，相对较暗的材质而言，较亮的材质能让灯光扩散得更远。
在路径跟踪器缓存中设置各个点之间的最大距离。如果将该值设置为 0.0，将会基于场景的大小自动计算一个值。该自动计算出的值会在渲染过程中打印出来，如果需要调整点间距，则该值是一个好的起始值。
选择要在渲染过程中查询缓存时使用的过滤器。None 将返回最近的缓存点（未过滤）。
将过滤器的大小设置为 Cache Point Spacing 值的倍数。例如，值 3.0 表示使用的是三倍于缓存点间距的过滤器。如果该值小于 1.0，则不能保证可以找到任何缓存点。如果未找到任何缓存点，则该查询会返回默认颜色。
在最终过程开始之前对缓存点进行预过滤。这样可以提高使用最终渲染过程的性能，并且在启用了 Check Sample Visibility 时或是过滤器内核较大时尤其有用。
启用后，最终聚集也将缓存来自光源的照明。这样的话，需要计算的直接光就较少了，从而可以提高性能。这样提供的是近似结果，因此可能会影响照明的质量。例如，镜面反射高光产生的间接光反弹可能会丢失。但是此缓存仅为大于 1 的深度执行，因此光照贴图中直接光和阴影的质量不会下降。
启用此选项可以减少穿过墙壁的光线泄漏。当收集了要在其间进行内插的点后，其中某些点可能会位于几何体的另一侧。结果，光会通过几何体溢出。因此，为了避免这种情况的发生，Turtle 可以拒绝不可见的点。
设置要用于每次计算的光线数量。该数值越大，获得的质量越高，但渲染时间会越长。
设置 Monte Carlo 计算的间接光反弹的平均数量。该数值越低，解决方案噪音就会越大，但速度会越快，不过整体强度会保持不变。
光线在被视为“丢失”之前可以跟踪的最大距离。这在非常大的场景中可以提高性能。如果将该值设置为 0.0，将使用整个场景。该距离以 Maya 单位进行测量。
在 Turtle 中，焦散效果使用特殊的光子贴图进行处理。您必须明确从光源发射焦散光子。
影响计算焦散效果时要使用的光子数量，数量越多，计算的光子越多。默认值为 1.0。
设置在计算焦散效果的照明过程中搜索光子时要使用的最大搜索半径。如果将 Photon Radius 设置为 r，则会使用采样点周围半径为 r 的球体计算灯光。半径以 Maya 单位表示。
设置焦散光子在被吸收前可以采用的最大反弹数量。