建立徑向陣列

繪製弧並指定要在陣列顯示的元素數目。

請執行下列其中一項操作：
- 選取要在陣列中複製的元素，然後按一下「修改 | <元素>」頁籤「修改」面板 (陣列)。
- 按一下「修改」頁籤「修改」面板 (陣列)，選取要在陣列中複製的元素，然後按 Enter。
在選項列上按一下 (徑向)。
依據建立線性陣列的說明，選取所需的選項。
提示: 建立放射狀陣列時，其步驟與旋轉和複製元素的步驟相似。請參閱〈旋轉元素〉。
透過拖曳或按一下旋轉中心以重新定位旋轉控制的中心 () 到所需的位置：放置在選項列上，然後按一下以選取位置。
陣列構件將會放置在從該點測量取得的弧周圍。在大多數情況下，需要將旋轉符號的中心重新定位或拖離所選取元素的中心。該控制將鎖點到相關的點和線，如牆及牆與線的交點。您也可以將其定位於開放空間中。
將游標移至徑向陣列的弧開始的位置。(該線從旋轉符號的中心伸展到游標位置。)
註: 如果您要指定旋轉角度 (而不是繪製旋轉角度)，請在選項列上指定「角度」值，然後按 Enter。略過餘下步驟。
按一下以放置第一條旋轉放射線。如果在指定第一條放射線時鎖點游標，則鎖點線就會隨預覽框一起旋轉，並在放置第二條放射線時，與螢幕上的角度鎖點。
移動游標以放置第二條旋轉放射線。
此時將顯示另一條線來表示此放射線。旋轉時，會顯示暫時角度標註，並會出現預覽影像，展示選取項目的旋轉。
按一下可放置第二條放射線，完成陣列。
如果選取選項列上的「移至: 第二」，則第二條旋轉放射線將定義陣列中第二個構件的位置。其他陣列構件將以相同間距放置。

如果選取「移至: 最後」，則第二條旋轉放射線將定義陣列中最後一個構件的位置。其他陣列構件將以相等間距放置在第一個與最後一個構件之間。