以下のテッセレーション方法のいずれかに設定します。
均一(Uniform)テッセレーションでは、サブディビジョン サーフェスのベース メッシュ フェース(レベル 0 のフェース)ごとに等しい数のフェースを備えた、ポリゴンを生成します。
ポリゴン数(Polygon Count)は、均一(Uniform)と同じ方法ですが、それを超えると変換が失敗する、しきい値を含んでいます。最大ポリゴン数(Maximum Number Polygons)を使用して、その値を設定します。得られるポリゴンは、最大でおよそ、この値ほどの多さのポリゴンを含みますが、その数がちょうどになるという保証はありません。
適応(Adaptive)テッセレーションを選択すると、サブディビジョン サーフェス上の最も細かいレベルの各フェースに同数のフェースがあるポリゴンが生成されます。サブディビジョン サーフェスの領域を精緻化するほど、得られるポリゴンは、その同じ領域により多くのフェースを含みます。フェースごとの分割数(Divisions Per Face)を使用して、もっとも細かいレベルのフェースごとに生成されるフェースの数をコントロールします。
サブディビジョン サーフェス上の頂点に一致するポリゴンを生成します。ポリゴンは、レベル(Level)オプションで指定したレベルの頂点に一致します。
均一(Uniform)オプションを使用している場合は、このレベルを設定して、テッセレーションで使用されるフェースの数を定義します。たとえば、レベル(Level)が 3 の場合、レベル 3 のフェースがテッセレーションに使用されます。
均一(Uniform)または適応(Adaptive)テッセレーションを実行するときに、各フェースを分割する回数を指定します。この値を大きくすると、ポリゴン サーフェスがスムーズになります。
ポリゴン数(Polygon Count)テッセレーションで使用する、ポリゴンのしきい値を設定します。
テッセレーション後の、選択したオリジナルのオブジェクトの操作を指定します。元のオブジェクト(Original Object)設定を使用すると、グローバル コンストラクション ヒストリ設定をオリジナルのオブジェクトの設定でオーバーライドするときに、コンストラクション ヒストリの形式が維持されます。
ポリゴン サーフェスが生成されると、サブディビジョン サーフェスが削除されます。これが既定の設定です。
非表示(Hide)では、サブディビジョン サーフェスが維持されますが、ポリゴン サーフェスが作成されるとそれを非表示にします。このソース オブジェクトは、ハイパーグラフ(Hypergraph)およびアウトライナ(Outliner)で表示できます(入力と出力接続(Input and Output Connections)を選択)。また、ディスプレイ > 表示(Display > Show)で選択項目の表示(Show Selection)またはすべて(All)を使用することでモデリング ビューで可視にすることができます。
表示では、サブディビジョン サーフェスを維持し、それをモデリング ビューで可視のまま維持します。
このオプションをオンにすると、得られるポリゴンで既存の UV メッシュ境界が維持されます。このオプションがオフの場合は、ポリゴン フェースごとに UV 境界が作成されます。