以阵列样式排列零件特征的步骤

可以沿路径创建矩形阵列、环形阵列、镜像阵列。

以矩形阵列样式排列零件特征或实体

“矩形阵列”工具可复制特征并按矩形阵列样式排列生成的特征（沿路径或从原始特征的两个方向）。

1. 单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “矩形” 。
2. 在“矩形阵列”对话框中，指定要阵列的对象：
   • “阵列各个特征”。形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。无法形成部件定位特征阵列。
   • “阵列实体”。形成实体阵列，包括不能单独形成阵列的特征。也可以包括定位特征和曲面特征。在部件中不可用（在 Inventor LT 中不适用）。
3. 在图形窗口或浏览器中，选择要在阵列中包含的一个或多个特征或实体。对于零件，还可以选择要包含在阵列中的定位特征和曲面特征。
4. 在多实体零件中，使用“实体”选择器 选择接收阵列的实体。
5. 通过指定以下选项，对齐行和列阵列中的选定特征：
   注： 选择工作平面或平面后，平面的法向作为线性方向。
   • “路径”。选择要在其中添加引用的方向。方向箭头的起点位于选择点。路径可以是二维或三维直线、圆弧、样条曲线、修剪的椭圆或边。路径可以是开放回路，也可以是闭合回路。
   • “反向”。反转引用的方向。如果选择“中间面”并且引用数量为偶数，则指示获取额外引用的一侧。
   • “中间面”。创建一个阵列，从中可以在原始特征的两侧分布引用。对于矩形阵列，可以为任一方向（“方向 1”、“方向 2”）单独使用中间面。
   • “数量”。指定列或线性路径中引用的数量。必须大于 0。
   • “长度”。指定引用之间的间距或距离，或者列或行跨越的距离。可以输入负值来创建相反方向的阵列。
   • “距离”、“间距”或“曲线长度”。指定长度测量方式：列或行的总距离、引用之间的间距大小或者完全配合选定曲线的长度。必须大于 0。
6. 如果阵列实体，请选择操作：
   • “求并”。将阵列附着到选定的实体上。形成单个、统一的实体阵列。
   • “新建实体”。创建包含多个独立实体的阵列。
7. 单击“更多” 以设置起点的方向、计算方法和阵列特征的方向：
   方向 1 和方向 2

   • “开始”。设置两个方向上的第一个引用的起点。如果需要，阵列可以任何一个可选择的点为起点。单击“开始”，然后单击路径上的一点以指定一列或两列的起点。如果路径是封闭回路，则需要一个起点。
   Compute

   • “优化”。通过阵列特征面创建与选定特征完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能，可加快阵列计算速度。
   • “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用“优化”方法时，可使用此项来获得完全相同的特征。
   • “调整”。通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。

   注： 用“优化”或“完全相同”方法创建的阵列比用“调整”方法创建的阵列的计算速度快。如果调整平面，则阵列操作将会终止。结果是特征的大小和形状与原始特征不同。
   方向

   • “完全相同”。阵列中每个引用的定向方式都与选定的第一个特征的定向方式相同。
   • “方向 1”或“方向 2”。指定哪个方向控制阵列特征的位置。对每个引用进行旋转，使其根据所选的第一个特征将方向保持为路径的二维相切矢量。角度随该阵列中的每个引用而增大。要获得最佳结果，请将第一个引用置于路径的起点。
8. 单击“确定”。

以环形阵列样式排列零件特征或实体

“环形阵列”命令可将特征或实体的引用排列为圆弧或环形阵列。该命令可复制一个或多个特征或实体，然后以圆弧或圆形样式按特定的数量和间距排列生成的引用。

1. 单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “环形” 。
2. 在“环形阵列”对话框中，指定要阵列的对象：
   • “阵列各个特征”。形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。无法形成部件定位特征阵列。
   • “阵列实体”。形成实体阵列，包括不能单独形成阵列的特征。也可以包括定位特征和曲面特征。在部件中不可用（在 Inventor LT 中不适用）。
3. 在图形窗口或浏览器中，选择要在阵列中包含的一个或多个特征或实体。对于零件，还可以选择要包含在阵列中的定位特征和曲面特征。
4. 在多实体零件中，使用“实体”选择器 选择接收阵列的实体。
5. 单击“旋转轴”选择器 并选择引用应绕其重复的轴（角的轴心点）。轴可以在与阵列特征不同的平面上。单击“反向”可反转阵列的方向。
6. 指定放置选项：
   • “数量”。指定阵列中引用的数目。
   • “角度”。引用之间的角度间距取决于放置方法。如果选择“增量”放置方式，此角度指定了两个引用之间的角度间隔。如果选择“范围”放置方法，则角度指定了阵列所占用的总面积。输入负值以在相反方向创建阵列。
   • “中间面”。在原始特征（通常在居中位置创建）的两侧分布特征引用。引用数量为偶数时，使用“反向”确定取得额外引用的一侧。
7. 如果阵列实体，请选择操作：
   • “求并”。将阵列附着到选定的实体上。形成单个、统一的实体阵列。
   • “新建实体”。创建包含多个独立实体的阵列。
8. 单击“更多”以设置阵列特征的计算和定位方法：
   创建方法

   • “优化”。通过阵列特征面创建与选定特征完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能，可加快阵列计算速度。
   • “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用“优化”方法时，可使用此项来获得完全相同的特征。
   • “调整”。通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。
   放置方法

   • “增量”。定义特征之间的间距。首先指定阵列中引用的数量和角度。阵列占用的总面积已被计算出来。
   • “范围”。使用角度定义阵列特征占用的总区域。首先指定阵列中引用的数量和总角度。引用之间的间距将被计算出来。如果设计有可能变化，请使用“范围”放置方法，因为引用之间的间距将根据设计意图更新。
9. 单击“确定”。

以镜像阵列样式排列零件特征或实体

“镜像”命令可在平面中相等的距离处创建一个或多个特征、整个实体或新实体的反向副本。使用工作平面作为镜像平面的现有平面。

1. 执行以下操作之一：
   • 在零件文件中，单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “镜像” 。
   • 在部件文件（在 Inventor LT 中不适用）中，单击“装配”选项卡 “阵列”面板 “镜像” 。
2. 在“镜像”对话框中，指定要镜像的对象：
   • “镜像各个特征”。选择要镜像的实体特征、定位特征和曲面特征。如果所选特征带有从属特征，则它们也将被自动选中。在部件中，仅可以镜像基于草图的特征。不能镜像：
     • 部件定位特征（在 Inventor LT 中不适用）
     • 使用多条边定义的单个钣金凸缘和异形板特征（在 Inventor LT 中不适用）
     • 在整个实体上操作的特征（所有圆角、所有圆边、抽壳）
     • 基于求交操作结果的特征
   • “镜像实体”。选择零件实体。允许您在选择中选择性地包含定位特征和曲面特征。
3. 在图形窗口或浏览器中，选择要镜像的特征。
4. 在“镜像”对话框中，单击“镜像平面”，然后选择要用作镜像平面的工作平面或平面。在部件中不可用。使用“装配”选项卡中的“镜像零部件”（在 Inventor LT 中不适用）。
5. 在多实体零件中，选择“实体”，然后选择实体以接收镜像特征。
6. 如果要镜像实体，请选择操作，并确定是否需要删除原始实体：
   • “求并”。将特征合并到选定实体中。
   • “新建实体”。在多实体零件中创建实体。
   • “删除原始特征”。删除原始实体。零件文件中仅保留镜像引用。用于对零件的左旋和右旋版本进行造型。
7. 单击“更多” 以指定镜像特征的计算方式：
   • “优化”。通过镜像特征面来创建选定特征的完全相同副本。“优化”是最快的计算方法，但是存在一些限制，例如，无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。加快镜像的计算速度。
   • “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用优化方法时，可使用“完全相同”来获得完全相同的特征。计算速度比使用“调整”方法快。
   • “调整”。通过镜像特征并分别计算每个镜像引用的范围或终止方式，来创建可能不同的选定特征的副本。具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使镜像引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的镜像特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的镜像。
8. 单击“确定”。
   提示： 若要从镜像中删除参与件，请在浏览器中展开特征，单击鼠标右键，然后选择“删除参与件”。

演示如何创建矩形阵列

演示如何沿路径创建阵列

演示如何创建环形阵列

演示如何创建增量环形阵列

演示如何创建环形阵列而不旋转引用

演示如何调整特征阵列以适应模型

演示如何在父特征周围均匀分布阵列引用

演示如何镜像零件特征和实体

控制阵列中特征的可见性

暂时抑制在阵列中显示定位特征、实体特征或曲面特征。恢复特征之前，特征将保持被抑制状态。

• 执行以下任意操作：
  • 若要抑制或恢复阵列中所有实体特征引用的可见性，请在浏览器中选择阵列图标，单击鼠标右键，然后选择“抑制特征”或“解除抑制特征”。
  • 若要抑制或恢复阵列中实体特征的单个引用的可见性，请在浏览器中展开阵列图标，选择该引用，单击鼠标右键，然后选择“抑制”或“解除抑制”。
    注： 注意：单独抑制的引用必须单独恢复。
  • 若要隐藏或恢复所有阵列引用中所有定位特征或曲面特征的可见性，请在浏览器中选择阵列图标，单击鼠标右键，然后选择“隐藏所有定位特征”、“显示所有定位特征”、“隐藏所有曲面”或“显示所有曲面”。
  • 若要隐藏或恢复某个阵列引用中单个定位特征或曲面特征的可见性，请在浏览器中展开阵列图标，选择该引用，单击鼠标右键，然后打开或关闭“可见性”选项。

控制阵列中曲面特征的不透明度

创建曲面时，该曲面透明，且与工作平面的颜色相同。使用“透明度”选项使曲面不透明。

• 请执行以下操作之一：
  • 若要控制所有阵列引用中所有曲面特征的不透明度，请在浏览器中选择阵列图标，单击鼠标右键，然后选择“所有曲面均不透明”或“所有曲面均透明”。
  • 若要控制某个阵列引用中单个特征的不透明度，请在浏览器中展开阵列图标，然后展开引用图标。选择该特征，单击鼠标右键，然后打开或关闭“透明”选项。