VRED 共享属性中使用的多种真实光照材质。
对象本身的发光效果。如果对象需要被照亮，但在场景中未使用完整灯光对象，则在众多这类情况下即可使用白炽度。对象可使用只影响自身照明或影响周围场景照明的设置。
效果强度（范围：0-1000）。
光线的颜色。
允许根据所使用纹理的纹理值来控制效果的强度。
根据材质类型，设置选项可能有所不同。对于常见的材质（如塑料和 Phong），使用纹理时现有三种映射类型可选：
重复：在所有方向重复纹理。
镜像：对于每个重复，在 x 轴和 y 轴镜像纹理。
贴花：不重复纹理。
钳制：只重复纹理的最后一个像素。
设置 UV 的重复次数。
设置 UV 向偏移。
旋转 UV。
如果选中此选项，将自动调整对应于原始纹理纵横比的尺寸。
设置图像纹理的纹理过滤器质量。值 1 质量最低。值 16 质量最高。
在光线跟踪场景中，将这种材质用作其他材质的光源。
允许白炽光阴影材质。将阴影材质的“反射模式”设置为“漫反射”、“光泽”或“漫反射 + 光泽”。
允许其他对象因阴影材质的白炽度照明而在材质上投射阴影。
设置几何体灯光投射的阴影的强度。
控制照明和设置交互/静帧渲染过程中的光采样质量。
定义着色器的不透明度。
将着色器渲染透明。
反转纹理。
“常规真实光照材质设置 - 白炽度”一节中描述了“纹理”、“重复”、“偏移”、“旋转”和“各向异性”设置。
半透明和次表面散射是计算穿过对象后面进入观察者视线的灯光的两种不同方法。半透明所需的计算能力要少得多，次表面散射可提供更多的可能性和更大的灵活性。
取决于要投影的对象，有两种半透明操作模式：
薄壁半透明：适用于单面对象。与实体半透明模式相比，它需要更多的计算时间，不过如果不确定，请使用此模式。
实体半透明：只用于实体对象。否则，当在单面对象上使用此模式，就会出现不可预知的问题。
确定散射/半透明的光线的颜色。
定义应用于半透明光的扩散量。
对象被遮挡一侧的入射光折射到所有方向。采用这种模式可以模拟蜡或其他半透明材质的行为。有两种可用模式：
单次散射：允许光线在材质内部反弹一次，然后反射到外面。这种模式不太准确，但与多次散射相比需要的计算时间较少。
多次散射：允许光线在材质内部反弹数次，然后反射到外面。这种模式更准确，但与单次散射相比需要的计算时间较多。
光在介质内传输的距离取决于衰减值。值越高，介质内吸收的光越多。
此值描述入射光的方向特征及其加权行为。值 -1 定义光分布到沿入射光路径被遮挡的一侧。值 1 定义光沿入射光路径分布。值 0 描述光在介质内均匀分布。
基于现实中存在的材质，提供种类繁多的折射率。所选的介质自动影响折射率。
折射率定义光学密度，从而定义在穿过不同密度的材质时折射光线的方式。
“常规真实光照材质设置 - 白炽度”一节中描述了“纹理”、“重复”、“偏移”、“旋转”和“各向异性”设置。
置换贴图是被解释为高度信息的详细贴图。使用置换贴图，可以只使用普通图像，从相当简单的几何体创建高度详细的结构。几何体上的每个点都使用贴图的高度信息，沿插值顶点的法线置换，从而得到真实的轮廓，产生正确的阴影和反射。精度受限于纹理图像的分辨率，对内存的要求很低。为了避免置换曲面出现裂纹，顶点法线应光滑和一致。使用一个较高的平面完全嵌合的基准网格可以大幅提高性能。
定义置换的高度。
此功能允许像在光线跟踪模式下一样在 OpenGL 中进行置换计算。选择此选项可能会大大降低性能。
为漫反射颜色通道加载图像纹理。使用此图像作为曲面上的图案。
在所有方向重复纹理。重复
对于每个重复，在 x 轴和 y 轴镜像纹理。
贴花：不重复纹理。
只重复纹理的最后一个像素。
UV 向重复：设置 UV 的重复次数。
UV 向偏移：设置 UV 向偏移。
旋转：旋转 UV。
投影中心：可以在此处设置投影平面中心的坐标 (x, y, z)。
投影方向：提供了倾斜投影平面的可能性。
投影尺寸：设置投影的尺寸。
这些设置只在光线跟踪渲染模式下生效。
将材质的 ID 设置在 [0, 31] 范围内。
定义着色器应用于直线几何体时管的半径。
如果选中，将从在所有照明模式中指定给这种材质的环境计算漫反射和光泽反射。镜面反射取决于场景中存在的环境。
如果选中，该设置将为交互或静帧渲染覆盖全局设置照明模式。
交互/静帧：设置渲染视图交互/静帧渲染过程中的渲染质量模式和渲染质量级别。
CPU 光栅化：这种模式不计算直接反射，也不计算折射或任何其他复杂的视觉效果。
预计算的照明：这种模式可与 VRED OpenGL 渲染模式相媲美。它使用预计算的环境光遮挡和间接照明进行渲染，并计算光源的镜面反射和折射以及正确阴影。
预计算 + 阴影：这种模式使用基于预计算的图像的照明和间接照明，但不使用预计算的环境光遮挡值。相反，它会根据活动环境计算阴影。
预计算 + IBL：这种模式使用预计算的间接照明并对环境进行采样。
完整的全局照明：“完整的全局照明”模式不使用任何预计算的值，但会以基于物理原理的方法对所有对象进行准确采样。其他功能（如光子贴图）需要将渲染模式设置为“完整的全局照明”。
若启用，这一设置将覆盖环境贴图采样的全局 IBL 采样质量。
交互/静帧：设置交互/静帧渲染过程中的 IBL 采样质量。
若启用，这一设置将覆盖反射/折射的全局采样质量。
交互/静帧：设置交互/静帧渲染过程中的反射/折射采样质量。
如果选中，该设置将为交互或静帧渲染覆盖全局设置照明模式。
交互/静帧：设置交互/静帧渲染过程中的跟踪深度。
公用设置定义在所有 BRDF 材质中存在的材质设置。
设置着色器的预计算的环境光遮挡颜色。
设置着色器的预计算的环境光遮挡强度。
压缩使用的所有纹理以节省磁盘空间，并有助于减少大场景的内存需求。
基于控制工程图透明曲面顺序的键将材质划分到组。
单击鼠标右键打开上下文菜单，选择要用作光源的 HDR 图像。
定义要用于着色器的灯光模型。有五种不同的照明模型。
IBL + 间接 + 直接灯光：HDR 图像、预先计算或交互全局照明渲染和放置在场景中的直接光源将影响着色器。
IBL + 间接：HDR 图像、预先计算或交互全局照明渲染将影响着色器。
IBL + 直接灯光：HDR 图像和放置在场景中的直接光源将影响着色器。
IBL：只有 HDR 图像影响着色器。
直接灯光：只有放置在场景中的直接光源影响着色器。