[プロセス設定ウィザード]ダイアログ ボックス: マイクロセルラー射出成形設定

プロセス設定ウィザードのこのページにアクセスするには、 ([ホーム]タブ > [成形プロセス設定]パネル > [プロセス設定])をクリックします。ここでは、選択した解析順序のマイクロセルラー射出成形に関連するプロセス設定を指定します。

注: 次の一覧の項目には、現在のダイアログ ボックスでは利用できないものもあります。利用できる項目は、選択したメッシュ タイプに応じて異なります。

一般設定

ウィジェット	説明
マイクロセルラー発泡ガス	次の超臨界流体オプションがあります。 N2 (窒素) CO2 (二酸化炭素) カスタム
初期ガス量	超臨界流体の初期量は、次のいずれかとして定義できます。 重量 % による濃度、または ガス飽和圧力 代わりに化学発泡剤(CBA)を使用することもできます。
気泡核生成モデル	次の 2 つのオプションがあります。 一定核生成密度 このオプションは既定の選択で、成形品全体に一定の核生成密度があると仮定します。このモデルを使用するには、体積当りの発泡セル数を入力する必要があります。 フィッティングされた古典的核生成モデル このオプションは、フィッティングされた古典的核生成モデルを使用して、成形品の任意の領域における気泡数を予測します。このモデルを選択すると、気泡数密度が計算されます。この計算に使用するパラメータは、マイクロセルラー材料データから取得します。
体積当りの発泡セル数 このオプションは、一定核生成密度モデルを選択した場合にのみ利用可能です。	核生成密度値を入力します。核生成密度は、成形品の走査型電子顕微鏡像から決定できます。このデフォルト値はポリスチレンで成形したテスト プラークにより決定されました。

ヒント: 成形品が実際には完全に充填されるにもかかわらず、シミュレーションでショート ショットが予測された場合は、原因として体積当りの発泡セル数値が低過ぎたことが考えられます。