マイクロセルラー射出成形解析順序

次の表は、マイクロセルラー射出成形の解析タイプ別に使用可能な解析テクノロジを示しています。

マイクロセルラー射出成形プロセスでは、次の解析順序を利用できます。ここで、
  • Midplane は Midplane メッシュを示します。
  • Dual Domain は Dual Domain メッシュを示します。
  • 3D は 3D メッシュを示します。
マイクロセルラー射出成形解析順序
解析タイプ メッシュ タイプ
充填 Midplane Dual Domain 3D
充填+保圧 Midplane Dual Domain 3D
繊維配向(プロセス設定オプション) Midplane Dual Domain 3D
冷却 空白 空白 3D
冷却+充填 空白 空白 3D
冷却+充填+保圧 空白 空白 3D
充填+保圧+反り Midplane Dual Domain 3D
冷却+充填+保圧+反り Midplane Dual Domain 3D
充填+冷却+充填+保圧+反り Midplane Dual Domain
ゲート位置 空白 空白 3D
冷却(FEM) 空白 空白 3D
冷却(FEM)+充填 空白 空白 3D
冷却 (FEM)+充填+保圧 空白 空白 3D
冷却 (FEM)+充填+保圧+反り 空白 空白 3D
複屈折(プロセス設定オプション) 空白 空白 3D
エジェクタ解析(プロセス設定オプション) 空白 空白 3D