“基本参数”卷展栏(粒子阵列)

使用“基本参数”卷展栏上的项,可以创建和调整粒子系统的大小,并拾取分布对象。此外,还可以指定粒子相对于分布对象几何体的初始分布,以及分布对象中粒子的初始速度。在此处也可以指定粒子在视口中的显示方式。

界面

“基于对象的发射器”组

拾取对象
创建粒子系统对象后,“拾取对象”按钮即可用。单击此按钮,然后通过单击选择场景中的某个对象。所选对象成为基于对象的发射器,并作为形成粒子的源几何体或用于创建类似对象碎片的粒子的源几何体。
“对象”文本字段
显示所拾取对象的名称。

“粒子分布”组

以下选项确定标准粒子在基于对象的发射器曲面上最初的分布方式。仅当所拾取对象用作标准粒子、变形球粒子或实例几何体的分布栅格时,这些控件才可用;请参见“粒子类型”卷展栏。如果在“粒子类型”卷展栏中选择了“对象碎片”,则这些控件不可用。

  • 在整个曲面(默认设置)。在基于对象的发射器的整个曲面上随机发射粒子。
  • 沿可见边从对象的可见边随机发射粒子。
  • 在所有顶点上从对象的顶点发射粒子。
  • 在特殊点上在对象曲面上随机分布指定数目的发射器点。

    总计在选择“在特殊点上”后,指定使用的发射器点数。

  • 在面的中心上从每个三角面的中心发射粒子。
使用选定子对象
对于基于网格的发射器以及一定范围内基于面片的发射器,粒子流的源只限于传递到基于对象发射器中修改器堆栈的子对象选择。例如,如果发射器对象是转换为可编辑网格的圆柱体,并以“面”或“多边形”子对象层级选择了该圆柱体的顶面,当“使用选定子对象”“粒子分布”组 “在面的中心”已启用时,粒子流将只从圆柱体的顶面发射。默认设置为禁用状态。

指定的粒子分布类型确定所使用的子对象几何体的类型,如下所述:

  • 在整个曲面
  • 沿可见的边
  • 在所有的顶点上顶点
  • 在特殊点上
  • 在面的中心

    如果已将对象转换为可编辑网格,并且通过顶点、边和面选择选中了该对象的各种子对象选择,在切换粒子分布选项时,将看到粒子从对象的不同区域发射。

    注: 仅当使用面片和元素子对象层级时,“使用选定子对象”才适用于面片对象发射器,但不适用于作为发射器使用的 NURBS 对象。
    提示: 通过在“粒子生成”卷展栏 “粒子运动”组中先将“速度”设置为 0,可以看到最佳的发射图案。移到粒子出现的帧中,然后选择各种粒子分布的选项。

“显示图标”组

调整粒子系统图标在视口中的显示。(粒子系统图标通常被称为“发射器”。但是,在此例中,该系统实际不能不发射粒子,因此要避免该术语。)

图标大小
设置图标的总体大小(以单位数计)。
图标隐藏
启用该选项后,视口中将隐藏粒子阵列图标。请注意,该图标从不显示。默认设置为禁用状态。

“视口显示”组

指定粒子在视口中的显示方式。

  • 圆点粒子显示为圆点。
  • 十字叉粒子显示为十字叉。
  • 网格粒子显示为网格对象。这会减慢视口重画的速度。
  • 边界框仅对于实例几何体,每个实例粒子(无论是单个对象、层次还是组)显示为边界框。
粒子数百分比
此微调器以渲染粒子数百分比的形式指定视口中显示的粒子数。默认设置为 10%。

如果要看到与场景中将渲染的粒子数相同的粒子数,请将显示百分比设置为 100%。不过,这样可能会大大减慢视口的显示速度。