为材质的交互和静帧抗锯齿设置默认照明模式。
CPU 光栅化 - 不计算直接反射、折射或任何其他复杂的视觉效果。
预计算的照明 - 可与 VRED OpenGL 渲染模式相媲美，此模式使用预计算的环境光遮挡和间接照明进行渲染，并计算光源的镜面反射和折射以及正确阴影。
预计算 + 阴影 - 使用基于预计算的图像的照明和间接照明，但不使用预计算的环境光遮挡值。相反，它会根据活动环境计算阴影。
预计算 + IBL - 使用预计算的间接照明并对环境进行采样。
完整的全局照明 - 不使用任何预计算的值，但会以基于物理原理的方法对全局照明分布进行准确采样。某些功能（如光子映射）需要将渲染模式设置为“完整的全局照明”。
计算场景中的全局照明。默认的 VRED 方法“完整的全局照明”提供了高质量结果，但可能需要更长的计算时间。光子跟踪可以缩短渲染清晰图像所需的时间，尤其是在室内场景中。
最常用的光子跟踪模式是“仅间接”。“焦散 + 间接”模式计算由于场景中的镜面反射材质而产生的间接照明和焦散。
光子跟踪适用于室内场景。在室外场景中，大部分灯光直接照亮场景，因此 VRED 默认模式“完整的全局照明”可能会提供更好的性能。
发射的光子数与存储的光子数并不相同。如果一个光子错过了场景，则不会存储该光子。如果一个光子在场景中反弹多次，则可能会多次存储该光子。若要尽可能减少发射的光子数，请以适当的方式放置任何灯光发射器，以便大多数光子能够命中场景。
使用最终聚集时，如果光子半径太大，场景可能会出现漏光。漏光主要是由于建筑场景中的不良几何体导致的。例如，房间内部通过窗户照亮，墙壁被建模为简单平面。墙壁附近的任意几何体都会获得房间外的灯光，因为没有实际壁厚。解决方案也是进行外墙建模。减少查找半径也可解决此问题，但可能需要向场景中投射更多光子。
具有强烈间接照明的场景主要由墙壁反射的灯光所照亮，在这些场景中，最终聚集也可能会出现问题。在这些情况下，禁用最终聚集可能会为您提供更加清晰的结果。
设置当计算光子或光线颜色时在光线跟踪过程中考虑的反射次数。
这两个光子计数值指定为每个图像采样送入场景的光子数。如果在将图像采样设置为 256 时指定光子计数为 100 个光子，则系统将针对一个帧发送 25,600 个光子至场景中。光子越多，结果越平滑。
指定供光线跟踪器用于查找光子的场景命中点周围的半径。较大的半径允许光线跟踪器找到更多的光子，但可能会导致查找时间延长。
可以通过两种方式来使用光子贴图。第一种方法使用焦散光子。它会收集命中点周围的光子来计算入射照明。这种方法可以带来快速的交互性能并能够计算场景中的所有灯光路径，但它可能需要大量光子才能获得清晰图像。第二种方法是使用最终聚集。在最终聚集中，将先执行一次反弹间接照明，然后再评估光子贴图。此功能是 VRED 中的默认光子跟踪方法，因为它可以在短时间内生成高质量的图像。如果将最终聚集质量设置为“禁用”，将启用第一种方法；如果将其设置为任何其他值，将使用第二种方法。
设置用于在光线跟踪过程中找到最近的最终聚集点的半径。使用较小的半径将提高性能，但它需要更多的光子来避开黑暗区域。
如果将最终聚集质量设置为 1 或更高，则可以设置光子贴图的更新频率。默认情况下，将更新每个图像采样的光子贴图，从而将许多光子发送到场景中。如果将最终聚集质量设置为“禁用”，通常只需每个帧更新一次光子贴图，然后将其用于每个图像采样，从而减少渲染时间。
关于每个采样 - 将更新每个图像采样的光子贴图。这是默认设置，因为它也适用于包含动画对象的场景，否则可能会导致闪烁。
关于场景更改 - 除非激活运动模糊，否则每个帧均更新一次光子贴图。由于焦散需要许多光子，因此仍将为每个采样更新焦散贴图，同时只能更新一次间接照明光子贴图。此设置通常可实现最佳渲染性能，但需要更高的光子计数来获得无伪影结果。当渲染包含动画对象的场景时尤其如此，结果可能会在光子计数低的区域闪烁。因此，这种模式应仅用于包含静态几何体和材质的场景。
停止使用路径跟踪评估光泽反射，并改用最终聚集贴图。此功能可减少渲染时间，但会降低反射的准确性。
指定用于对环境贴图进行采样的光线数量。光线越多，提供的质量就越高，但是需要的时间也就更长。
应用的原理与“IBL 采样质量”相同；设置用于采样的光线数量。
定义光线在终止之前进行的交互次数（例如，反射和折射）。数字越大意味着质量越高。