「照明型式」對話方塊參考

建立和編輯模型環境照明型式以及型式內的個別光源。

當您修改照明型式設定時，該照明型式會複製到文件中，且所有變更都將保留在本端文件中。如果需要與其他 Inventor 使用者共用修改，應將該照明型式儲存至資源庫，以覆蓋既有型式，或將其更名，然後做為新型式儲存至資源庫。

存取方式

按一下「檢視」頁籤 「外觀」面板 「照明型式」清單 「設定」(位於底部)。

按一下「管理」頁籤 「型式與標準」面板 「型式編輯器」，然後展開「照明」節點 (如果需要)。

展開照明資料夾並顯示照明型式。選取照明型式，然後修改參數以滿足您的需求。環境照明型式可以包括標準光源。標準照明型式不包含環境來源。

「環境」對話方塊頁籤

顯示場景影像

設定要顯示為背景影像的影像。

註: 環境影像的模型位置以地平面為基礎。使用「地平面設定」來修改相對於模型的影像位置。
註: 必須符合特定硬體需求，才能將來源影像顯示為背景。
曝光

提高或降低場景中的光源亮度。

旋轉

調整模型周圍環境的方位。

比例

設定影像和 3D 背景幾何圖形的比例係數。

「照明」對話方塊頁籤

在一個型式中使用最多 4 種光源。

光源數目

編輯所選光源的性質。

  • 顏色 - 按一下色盤，以變更光源的顏色。
  • 亮度 - 使用滑塊來增大或減小所選光源的強度。
  • 相對移動
    • 以相機為基礎 - 將所選光源與視圖相機相關聯。此行為與手持打開燈的攝影機在房間內走動類似。
    • 以 ViewCube 為基礎 - 將所選光源與 ViewCube 相關聯。場景提供照明，而光源不隨相機移動。如果重新定義 ViewCube，照明方向會更新以反映新位置。
    提示: 以相機為基礎的選項和以 ViewCube 為基礎的選項可讓您在單一照明型式中混合使用兩種設定。
    • 方位角 (在 Inventor Studio 中稱為「經度」) 透過繞垂直軸線迴轉光源來設定光源位置。
    • 高度 (在 Inventor Studio 中稱為「緯度」) 透過繞水平軸線迴轉光源來設定光源位置。
所有光源 (僅限標準光源)

會影響型式中所有標準光源的設定。這些值會同等套用至每種光源。

  • 亮度

    設定型式中正向光源的強度。使用滑棒來增加或降低強度。

  • 環境光源

    設定場景中環境光源的亮度，以控制面的受光區與非受光區的對比程度。將滑棒左移可增加對比；將滑棒右移可降低對比。

「陰影」對話方塊頁籤

陰影來源
依方向、光源物件或環境光源指定陰影方位。
地面和物件陰影
「密度」控制陰影的暗度。值越大，陰影越暗。
「柔和度」控制陰影漫射或陰影定義的完善度。數值越高，柔和度越高。較低的數值可增加陰影清晰度 (如同在燈光或日光下)。
環境陰影
控制轉角和母模仁中的陰影量。用於在視覺上增強造型變更的轉移。

匯入

您可以使用清單窗格底部的選項按鈕，來匯入照明型式。照明型式會附加至文件中的本端型式清單。若要將本端型式加入至資源庫，請在型式上按一下右鍵，然後選取「儲存至型式資源庫」

關聯式功能表指令

相關參考