Można tworzyć odbicia obiektów według określonej osi, aby utworzyć symetryczne lustrzane odbicie.
Obiekty są odwracane względem osi zwanej osią odbicia. Aby określić tymczasową oś odbicia, należy podać dwa punkty. Można wybrać, czy oryginalne obiekty mają być zachowane czy usunięte.
Domyślnie podczas tworzenia lustrzanych odbić tekstów, kreskowań, atrybutów i definicji atrybutów nie są one odwracane ani obracane do góry nogami. Wyrównanie i justowanie tekstu jest takie samo, jakie było przed utworzeniem odbicia lustrzanego. Jeśli tekst ma być odwrócony, wartość zmiennej systemowej MIRRTEXT należy ustawić na 1.
Zmienna MIRRTEXT ma wpływ na tekst tworzony za pomocą poleceń TEKST, ATRDEF i WTEKST, definicji atrybutów i atrybutów zmiennych. Atrybuty stałych i tekstu stanowiące część wstawianego bloku są odwracane podczas tworzenia odbicia lustrzanego niezależnie od wartości zmiennej MIRRTEXT.
Polecenie MIRRHATCH wpływa na obiekty kreskowania utworzone za pomocą poleceń GRADIENT lub KRESKUJ. Zmienna systemowa MIRRHATCH umożliwia określenie, czy kierunek wzoru kreskowania jest odwracany, czy zachowywany.
Lustro w 3D (niedostępne w programie AutoCAD LT)
Polecenie LUSTRO3D umożliwia tworzenie lustrzanego odbicia obiektu w stosunku do określonej płaszczyzny. Płaszczyzna odbicia może być następująca:
- Płaszczyzna zawierająca wybrany obiekt
- Płaszczyzna równoległa do płaszczyzny XY, YZ lub XZ bieżącego układu LUW, która przechodzi przez wybrany punkt.
- Płaszczyzna zdefiniowana przez trzy określone punkty (2, 3 i 4).
