编辑关联阵列对象及其源对象。
通过编辑阵列属性、编辑源对象或使用其他对象替换项，修改关联阵列。
当选择和编辑单个阵列对象时，会显示“阵列编辑器”功能区上下文选项卡。在阵列编辑器功能区上下文选项卡上可用的阵列特性取决于选定阵列的类型。
系统将显示以下提示。
选择阵列以供编辑。您选择的阵列类型（矩形、路径或环形）决定接下来的提示。
激活编辑状态，在该状态下可以通过编辑它的一个项目来更新关联阵列。
替换选定项目或引用原始源对象的所有项目的源对象。
选择新的源对象。
指定用于定位每个替换对象的基点。
指定要替换的阵列项目，然后继续提示指定其他项目。
重新定义阵列的基点。路径阵列相对于新基点重新定位。
指定用于在阵列中放置对象的基点。
对于关联阵列，在源对象上指定有效的约束（或关键点）以用作基点。如果编辑生成的阵列的源对象，阵列的基点保持与源对象的关键点重合。
指定行数和行间距，以及它们之间的增量标高。
使用数学公式或方程式获取值。
指定第一行和最后一行之间的总距离。
指定列数和列间距。
指定列之间的距离。
使用数学公式或方程式获取值。
指定第一列和最后一列之间的总距离。
指定（三维阵列的）层数和层间距。
使用数学公式或方程式获取值。
指定第一层和最后一层之间的总距离。
控制如何沿路径分布项目。
对于“方法”特性设置为“测量”的路径阵列，系统会提示您重新定义分布方法（定数等分、全部、表达式）。
指定是否对齐每个项目以与路径的方向相切。对齐相对于第一个项目的方向。
指定是否保持原始的 Z 方向或沿三维路径自然倾斜项目。
使用值或表达式指定项目之间的角度。
使用值或表达式指定阵列中第一个和最后一个项目之间的角度。
控制在排列项目时是否旋转项目。
恢复删除的项目并删除所有替代项。
退出命令。