沿路径或部分路径均匀分布对象副本。
路径可以是直线、多段线、三维多段线、样条曲线、螺旋、圆弧、圆或椭圆。
二维路径阵列
三维路径阵列
此命令相当于 ARRAY 中的“路径”选项。DELOBJ 系统变量控制在阵列创建后是删除还是保留阵列的源对象。
将显示以下提示:
选择要在阵列中使用的对象。
指定用于阵列路径的对象。选择直线、多段线、三维多段线、样条曲线、螺旋、圆弧、圆或椭圆。
指定是否创建阵列对象,或者是否创建选定对象的非关联副本。
控制如何沿路径分布项目。
定义阵列的基点。路径阵列中的项目相对于基点放置。
指定用于在相对于路径曲线起点的阵列中放置项目的基点。
对于关联阵列,在源对象上指定有效的约束(或关键点)以与路径对齐。如果编辑生成的阵列的源对象或路径,阵列的基点保持与源对象的关键点重合。
指定阵列中的项目如何相对于路径的起始方向对齐。
根据“方法”设置,指定项目数或项目之间的距离。
默认情况下,使用最大项目数填充阵列,这些项目使用输入的距离填充路径。您可以指定一个更小的项目数(如果需要)。也可以启用“填充整个路径”,以便在路径长度更改时调整项目数。
指定阵列中的行数、它们之间的距离以及行之间的增量标高。
设定行数。
基于数学公式或方程式导出值。
阵列中的标高指示沿 Z 轴方向拉伸阵列的行样式和列样式。
指定第一层和最后一层之间的总距离。
使用数学公式或方程式获取值。
指定是否对齐每个项目以与路径的方向相切。对齐相对于第一个项目的方向。
控制是否保持项目的原始 Z 方向或沿三维路径自然倾斜项目。
结束该命令。