ilrShadowMask 是设计用于帮助创建阴影遮罩过程的工具节点。与默认设置一起使用时,它提供的输出与 Turtle 过程系统中的标准阴影过程相同。阴影遮罩解决了默认阴影过程存在的以下主要缺点;背面多边形不通过投射阴影光线处理,因为无论如何,它们在标准着色器中都着色为黑色。这将导致标准阴影过程为实际上处在阴影中的像素返回完全照亮的结果。由于多边形的细分度较低导致产生锯齿阴影边界。
这是通常由着色覆盖的光线跟踪阴影附带产生的结果。使用“遮罩后向曲面”(Mask Back Facing Surfaces)时,ilrShadowMask 将修复这两个问题。它将通过调整“开始衰减”(Start Drop Off)和“停止衰减”(Stop Drop Off)正确地遮蔽所有对象,使后向曲面变为黑色。ilrShadowMask 通过应用介于这些值之间的 Lambert 着色模型来模拟软阴影边界。
完全处在阴影中时要使用的颜色。
完全照亮时要使用的颜色。
通过应用简单的 Lambert 着色算法遮罩后向曲面。
指定遮罩锯齿阴影硬边时应该从中开始阴影的位置。
指定遮罩锯齿阴影硬边时应该从中结束阴影的位置。