すべてのフェースを四角形に確実に維持しながら、選択したメッシュのサーフェス フィーチャを保持する、新しいクリーンなトポロジを生成します。メッシュ > リトポロジ化(Mesh > Retopologize)を選択した場合、または polyRetopo ノードが選択されている状態でアトリビュート エディタ(Attribute Editor)を開いた場合に発生する動作を設定するには、次のオプションを使用します。出力(Output)ウィンドウでリトポロジ化(Retopologize)の進行状況を確認できます。
次のオプションは、リトポロジ化オプション(Retopologize Options)ウィンドウでのみ使用できます。
高密度の入力メッシュを最適化して、リトポロジ化操作の速度を上げ、成功率を高めます。
選択したオブジェクトのコピーをリトポロジ化するのか、それともオブジェクト自体をリトポロジ化するのかを指定します。有効にすると、リトポロジ化(Retopologize)の操作は複製に対して行われるため、ソース メッシュは保持されます。
リトポロジ化されたメッシュに必要なフェース数。これは厳密な値ではありません。どちらかというと、リトポロジ化(Retopologize)の達成目標値です。0 に設定すると、ターゲット エッジの偏差(Target Edge Deviation)によって結果の密度がコントロールされます。
結果が許容範囲内と見なされる、ターゲット フェース数(Target Face Count)からの誤差の範囲(%)。値が非常に小さい(10 未満)の場合は、パフォーマンスが低下することがあります。
結果内の特異点(接続されているエッジ数が 4 以外の頂点)の数を決定します。0 に設定すると、結果はサーフェスの影響を受けるようになり、より多くの特異点が発生します。1 に設定すると、生成される特異点が少なくなり、細部にわたって結果がスムーズになる可能性があります。
フェース全体のサイズと形状を表します。0 に設定すると、サイズが変化し、曲率が高い領域ではフェースが小さくなります。1 に設定すると、サーフェスの曲率に関係なく、フェースのサイズがより均一になります。
サーフェスの方向曲率に対する適応性。0 に設定すると、フェースのストレッチが少なくなり、正方形になります。1 に設定すると、フェースは曲率の方向ごとにサーフェスに適応するようさらにストレッチされます。注: 均一性が 1 に設定されている場合、異方性反射は効果がありません。