进行任何更改后,按“应用”和“确定”以保存它们。
照明模式
设置在对材质进行交互和静帧抗锯齿时使用的默认照明模式。
预计算 - 不计算直接反射,也不计算折射或任何其他复杂的视觉效果。
预计算 + 反射 - 可与 VRED OpenGL 渲染模式相媲美,此模式使用预计算的环境光遮挡和间接照明进行渲染,并计算光源的镜面反射和折射以及正确阴影。
预计算 + 阴影 - 使用基于预计算的图像的照明和间接照明,但不使用预计算的环境光遮挡值。相反,它会根据活动环境计算阴影。
预计算 + IBL - 使用预计算的间接照明并对环境进行采样。
完整的全局照明 - 不使用任何预计算的值,但会以基于物理原理的方法对全局照明分布进行准确采样。某些功能(如光子映射)需要将渲染模式设置为“完整的全局照明”。
光子跟踪
计算场景中的全局照明。默认的 VRED 方法“完整的全局照明”提供了高质量结果,但可能需要更长的计算时间。光子跟踪可以缩短渲染清晰图像所需的时间,尤其是在室内场景中。
最常用的光子跟踪模式是“仅间接”。“焦散 + 间接”模式计算由于场景中的镜面反射材质而产生的间接照明和焦散。
光子跟踪适用于室内场景。在室外场景中,大部分灯光直接照亮场景,因此 VRED 默认模式“完整的全局照明”可能会提供更好的性能。
发射的光子数与存储的光子数并不相同。如果一个光子错过了场景,则不会存储该光子。如果一个光子在场景中反弹多次,则可能会多次存储该光子。若要尽可能减少发射的光子数,请以适当的方式放置任何灯光发射器,以便大多数光子能够命中场景。
使用最终聚集时,如果光子半径太大,场景可能会出现漏光。漏光主要是由于建筑场景中的不良几何体导致的。例如,房间内部通过窗户照亮,墙壁被建模为简单平面。墙壁附近的任意几何体都会获得房间外的灯光,因为没有实际壁厚。解决方案也是进行外墙建模。减少查找半径也可解决此问题,但可能需要向场景中投射更多光子。
具有强烈间接照明的场景主要由墙壁反射的灯光所照亮,在这些场景中,最终聚集也可能会出现问题。在这些情况下,禁用最终聚集可能会为您提供更加清晰的结果。
最终聚集刷新 - 如果将“最终聚集质量”设置为 1 或更高,则可以设置光子贴图的更新频率。默认情况下,将更新每个图像采样的光子贴图,从而将许多光子发送到场景中。如果将最终聚集质量设置为“禁用”,通常只需每个帧更新一次光子贴图,然后将其用于每个图像采样,从而减少渲染时间。
关于每个采样 - 更新每个图像采样的光子贴图。这是默认设置,因为它也适用于包含动画对象的场景,这些动画对象原本可能会导致出现闪烁。
关于场景更改 - 除非激活运动模糊,否则每个帧均更新一次光子贴图。由于焦散需要许多光子,因此仍将为每个采样更新焦散贴图,同时只能更新一次间接照明光子贴图。此设置通常可实现最佳渲染性能,但需要更高的光子计数来获得无伪影结果。当渲染包含动画对象的场景时尤其如此,结果可能会在光子计数低的区域闪烁。因此,这种模式应仅用于包含静态几何体和材质的场景。
IBL 采样质量
指定用于对环境贴图进行采样的光线数。光线越多,质量就越高,但需要的时间也越长。
反射/折射采样质量
应用的原理与“IBL 采样质量”相同;设置用于采样的光线数。
跟踪深度
定义光线在终止之前进行的交互次数(例如,反射和折射)。数字越大意味着质量越高。