新增功能： 2022
如果您使用的模型狀態具有交叉零件關係，則對來源幾何圖形進行變更可能會導致非預期的結果。在這些情況下，當需要一個解法時，可能會有多個解法。在以下情況中，不建議使用模型狀態：
投影迴路
模型狀態包含來自另一個零件的投影迴路，其中的模型狀態控制特徵大小。編輯來源零件中的大小時，迴路幾何圖形會變更。此行為可能會意外變更消耗投影迴路的特徵大小。
框架產生器
在下圖中，SimpleFrame_MS (1) 中的模型狀態會消耗在 SimpleFrame (2) 的作用中模型狀態中指定的草圖標註。
系統產生的框架組合「框架160798...」(3) 使用名為「參考骨架」的草圖來控制目前配置。「參考骨架」是 SimpleFrame 中草圖幾何圖形的複本。由於系統產生的框架檔案中不允許模型狀態，因此框架參考骨架草圖永遠會反映在 SimpleFrame:1 的目前作用中模型狀態草圖中指定的標註。
由於框架無法與特定模型狀態同步，因此需要一個解法時，會有多個解法。這會導致組合和從組合建立的圖面發生非預期變更。
