1 つまたは複数の閉じたポリラインからマスク ブロック定義を作成するには、次の手順を実行します。 マスク ブロック定義の作成に複数のポリラインを使用する場合、これらのポリラインは完全にそれぞれの内側または外側にある必要があります。つまり、重なったり、接触したりしていてはなりません。 他のポリラインの内側にあるポリラインは、マスク ブロックを作成したときに開口となるボイド領域として指定できます。 定義の作成後は、定義プロパティを編集し、定義の特性をカスタマイズします。
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をクリックします. 
スタイル マネージャが表示され、ツリー ビューで現在の図面が展開されます。
- [多目的オブジェクト]を展開し、[マスク ブロック定義]を右クリックして、[新規作成]をクリックします。
- 新しいマスク ブロックの名前を入力して、[Enter]を押します。
- 新しいマスク ブロック定義名を右クリックし、[設定元]をクリックします。
- マスク ブロック定義の作成に使用する閉じたポリラインを選択します。
- 次のどちらかの操作を行って、マスク ブロック定義を完成させます。
- [Enter]を押して、1 つのポリラインからマスク ブロック定義を作成します。
- y と入力して他のポリラインを選択し、マスク ブロック定義に追加します。 これらのポリラインは、完全にそれぞれの内側または外側にある必要があります。重なったり、接触したりすることはできません。 他のリング内にあるポリラインは、マスク ブロックで開口になるボイド領域として指定できます。
- マスク ブロックの挿入基点を指定します。
- マスク ブロック定義に組み込む、別のグラフィックスを選択します。別のグラフィックスを組み込まない場合は、[Enter]を押します。 注: テキストまたはシンボルを選択してマスク ブロック定義に含めることができます。
- [OK]をクリックします。
選択した 1 つまたは複数のポリラインからマスク ブロック定義が作成されます。 新しいマスク ブロック定義は、マスク ブロック定義ツリーに一覧表示され、スタイル マネージャのグラフィックス スクリーンに表示されます。 元のポリラインは図面にそのまま存在します。