分析元素的本端座標系統方位

瞭解如何控制分析構件和分析板之本端座標系統的方位。

翻轉分析構件 X 軸的方向：

1. 選取一個或多個分析構件。
   註: 您可以逐一選取構件，也可以選取多個構件。如果您選取多個平行構件，工具會先對齊 X 軸方位，然後讓您一次變更所有構件的方位。
2. 按一下「修改 | 分析構件」「對齊 X 軸」面板 (翻轉 X 軸)。
3. X 軸的方向會轉為指向分析構件的另一端。

• - 一次對齊多個分析構件的 X 軸方位。
• - 一次變更多個分析構件的 X 軸方位。

對齊分析板的 Z 軸：

1. 選取一個或多個分析板。
   註: 您可以逐一選取分析板，也可以選取多個分析板。如果您選取多個平行板，工具會先對齊 Z 軸方位，然後讓您一次變更所有板的方位。
2. 按一下「修改 | 分析板」「本端座標系統」面板 (翻轉 Z 軸)。
3. Z 軸的方向會轉為朝上或朝下，與初始方位相反。

對齊分析板的 X 軸：

1. 選取一個或多個分析板。
   註: 您可以逐一選取分析板，也可以選取多個分析板。
2. 按一下「修改 | 分析板」「本端座標系統」面板 (對齊 X 軸)。
3. 使用參考線對齊 X 軸方位 ()。
4. X 軸的方向會根據選取的參考線 (分析構件或分析板邊緣) 轉向。

• - 一次對齊多個分析板的 X 軸方位。
• - 同時對齊多個分析板的 Z 軸方位。
• - 參考線。