ポストプロセス プローブ結果のパフォーマンスが向上しました。
接触を選択する際のパフォーマンスが向上しました。
セッション間で減衰データが保持される問題が修正されました。
一部のダイアログでツールチップが表示される問題が修正されました。
Inventor Nastran でのクラッシュが修正されました。