Inventor Nastran の 2025.2 リリースでは、簡単なドラッグ アンド ドロップ操作で解析の荷重、拘束、メッシュ コントロール、接触をソートできる機能など、いくつかの機能強化が行われています。さらに、ユーザーは、同じドキュメント内の 1 つの解析から別の解析にメッシュ コントロールをコピーできるようになりました。
2025.1 の Inventor Nastran リリースでは、新しいエラー リスト機能が導入され、ソルバー出力のすべてのエラーと警告の概要が示されるようになりました。また、この更新プログラムではローカライズに関する多くの問題も対処され、AVI アニメーションの問題も解決されました。
2025 の Inventor Nastran リリースでは、機能の実装や改善に関するお客様からの多くの要望が反映されました。複数のバグが修正され、ソルバーの接触アルゴリズムが強化されました。
2024.2 Inventor Nastran リリースでは、ポストプロセスでのシェル断面の表示、重力荷重の視覚化が改善され、接触面/エッジなどの拡張機能から反力および反モーメントの合計結果を抽出できるようになりました。
2024.1 Inventor Nastran リリースでは、輻射荷重のダイアログの操作性が向上し、シェル モデルでの節点プローブの結果の表示が修正されました。
2024 の Inventor Nastran リリースでは、メッシュ アルゴリズムの改善と複数レポート生成時のクラッシュの修正を行い、Nastran ソルバーでのいくつかの問題を解決しました。
2023.2 Inventor Nastran リリースでは、Inventor Nastran の一般的な安定性と、結果を AIN にロードする際および Inventor の[ホーム]タブから[モデル]タブに切り替える際の安定性が修正されました。
2023.1.2 Inventor Nastran Hotfix リリースでは、Inventor Professional とInventor Nastran 間の相互運用性および Inventor Nastran の安定性が向上し、最新ライセンス サービスの更新後に発生していたライセンスの問題が修正され、Inventor の相互関連ワークフローが改善されました。
2023.1 Inventor Nastran リリースでは、Inventor Professional と Inventor Nastran 間の相互運用性および Inventor Nastran の安定性が向上し、さらに複数の不具合が解決されました。
2023 Inventor Nastran リリースでは、ポストプロセスの安定性が向上し、複数のメッシュ生成の問題が修正されました。また、Nastran ソルバーの非線形解析および線形静解析も改善されています。
2022.2 Inventor Nastran リリースでは、ポストプロセスの視覚化とともに、複数のメッシュ生成の問題が修正されました。また、Inventor Nastran で使用されるモデルの状態に対する改善も含まれています。
2022.1 Inventor Nastran リリースでは、メッシュの連続性保持に関連する複数の問題が修正され、新しい材料タイプのデータ精度が向上し、さらに複数の不具合が解決されました。
2022 Inventor Nastran リリースでは、陽解法解析の材料範囲が拡張され、メッシュのパフォーマンスが向上し、複数の不具合が解決されました。
2021.2 Inventor Nastran リリースでは、複雑なモデルを使用したメッシュ作成、ポストプロセス、および製品の初期化に関するパフォーマンスが向上しました。
2021.1.1 Inventor Nastran リリースでは、準静的陽解法解析のパフォーマンスが向上しました。
2021.1 Inventor Nastran リリースでは、AMD プロセッサでの陽解法解析がサポートされ、準静的解析のパフォーマンスが向上しました。
2021 Inventor Nastran リリースでは、シミュレーション結果にエラーが発生し、アプリケーションがクラッシュする原因がいくつか解決されました。