鏡射增強功能

瞭解此版 Inventor 對「鏡射」指令所做的改進。

已增強組合環境中的「鏡射」功能。先前,僅可以對來源組合幾何圖形進行鏡射。現在,可以選取一個選項,以同時鏡射來源元件的幾何圖形和位置。此外,目標鏡射元件會保持關聯性,因此對來源元件所做的任何變更都會反映在目標元件中。

鏡射元件時,現在有兩個選項可用:

標記卡詮釋資料

熔接件和 iPart 文件可以做為重複使用的元件包括在鏡射陣列中,但不會進行鏡射。

您還可以使用關聯式功能表中的「複製元件」選項,建立關聯式鏡射的複本。系統會建立一個獨立的關聯式鏡射特徵。目標例證的目標節點不會展示在「複製元件」對話方塊中。

現在,使用關聯式功能表中的新選項,可以輕鬆找到鏡射來源或鏡射目標:

簡化了目標中鏡射例證 (未重複使用) 的關聯式功能表,並移除了以下指令:

在目標中鏡射例證 (未重複使用) 的關聯式功能表中,停用了以下指令:

約束

無法在目標與鏡射平面之間建立約束。來源元件可以透過組合約束移動,而陣列將更新目標元件的位置。

設計視圖

現在可以在組合文件中建立和更新 (包括更名、重新排序和刪除) 設計視圖。僅可以在來源文件中切換設計視圖。

位置表現法

現在可以建立和更新 (包括更名、重新排序和刪除) 位置表現法。只能在來源中變更位置表現法,目標上的位置表現法會隨之更新。使用新的「建立鏡射陣列」指令,完全無法鏡射彈性次組合。建立關聯式鏡射後,既有次組合無法變更為彈性次組合。

抑制

「抑制」可用於個別巢狀關聯式鏡射特徵。鏡射受抑制的來源或目標例證,會導致受抑制例證處於「重複使用」狀態。當關聯式鏡射的來源例證受抑制時,它在編輯模式下仍允許全部三種狀態 (鏡射、重複使用、排除)。未解析的例證不能用作關聯式鏡射的來源。關聯式鏡射的來源例證和目標例證都可以受抑制。

iProperty 和型式

鏡射元件陣列後,iProperty 和型式會從來源元件同步至目標元件。預設零件號碼值將在目標文件中建立,並且不會與來源文件同步。型式 (包括板金型式) 也會同步至目標文件。請注意,例證性質不會同步至目標文件。

若要取得更多資訊,請參閱〈鏡射組合元件〉。

效能

增強了關聯式和非關聯式鏡射的效能。在某些情況下會使用多執行緒,而加快計算過程。