ミラーの機能強化

Inventor の本リリースで[ミラー]コマンドに加えられた改善について説明します。

アセンブリ環境のミラー機能が強化されました。以前は、ソース アセンブリ ジオメトリのミラー化のみが可能でした。現在では、ソース コンポーネントのジオメトリと位置の両方をミラー化するオプションを選択できるようになりました。また、ターゲットのミラー化されたコンポーネントは関連付けを維持するため、ソース コンポーネントに加えられた変更はすべてターゲット コンポーネントに反映されます。

コンポーネントをミラー化する際には、現在、次の 2 つのオプションが使用可能です。

Markdown カード メタデータ

溶接および iPart ドキュメントは、再利用されたコンポーネントとしてミラー パターンに含めることができますが、ミラー化はできません。

コンテキスト メニューの [コンポーネントをコピー] オプションを使用して、関連付けられたミラーのコピーを作成することもできます。独立し関連付けられたミラー フィーチャが作成されます。ターゲット インスタンスのターゲット ノードは、[コンポーネントをコピー]ダイアログ内に表示されません。

コンテキスト メニューの新しいオプションを使用して、ミラー ソースまたはミラー ターゲットを簡単に検索できるようになりました。

ターゲットからミラー化されたインスタンス(再利用されていない)のコンテキスト メニューが簡略化され、次のコマンドが削除されました。

ターゲットからミラー化された(再利用されていない)インスタンスのコンテキスト メニューで、次のコマンドが無効になりました。

[拘束]

ターゲットと対称面の間に拘束を作成することはできません。ソース コンポーネントはアセンブリ拘束によって移動でき、パターンによってターゲット コンポーネントの位置が更新されます。

デザイン ビュー

名前変更、並べ替え、削除など、アセンブリ ドキュメントでデザイン ビューを作成および更新できるようになりました。デザイン ビューは、ソース ドキュメント内でのみ切り替えることができます。

ポジション リプレゼンテーション

名前変更、並べ替え、削除など、ポジション リプレゼンテーションを作成および更新できるようになりました。ポジション リプレゼンテーションはソース側でのみ変更でき、更新するとターゲットのポジション リプレゼンテーションが更新されます。フレキシブル サブアセンブリは、新しい [ミラー パターンを作成] コマンドではミラー化できません。関連付けられたミラーを作成した後、既存のサブアセンブリをフレキシブルに変更することはできません。

省略

[省略]は、個々のネストされた関連ミラー フィーチャに対して使用できます。省略されたソースまたはターゲット インスタンスをミラー化すると、省略されたインスタンスは「再利用」の状態になります。関連付けられたミラーのソース インスタンスが省略されても、編集モードでは 3 つの状態(ミラー、再利用、除外)すべてが適用可能です。未解決のインスタンスは、関連付けられたミラーのソースとして使用することはできません。関連付けられたミラーのソースおよびターゲット インスタンスは、どちらも省略することができます。

iProperty とスタイル

iProperty とスタイルは、コンポーネント パターンをミラー化した後、ソース コンポーネントからターゲット コンポーネントに同期されます。既定の部品番号の値はターゲット ドキュメントに作成され、ソース ドキュメントとは同期されません。シート メタル スタイルを含むスタイルも、ターゲット ドキュメントに同期されます。インスタンス プロパティはターゲット ドキュメントに同期されないことに注意してください。

詳細については、「アセンブリのコンポーネントをミラー化するには」を参照してください。

パフォーマンス

関連付けられたミラーと関連付けられていないミラーのパフォーマンスが向上しました。いくつかのシナリオではマルチスレッドが使用され、計算プロセスが高速化されます。

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