在矩形阵列中排列对特征或实体的引用。
复制一个或多个 特征 或实体。按照矩形阵列中的特定数量和间距,或者沿单向或双向的线性路径,来排列生成的引用。行和列可以是直线、圆弧、样条曲线或修剪的椭圆。
形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。
仅当父特征也被选中时,才能包括精制特征(例如圆角和倒角)。
在选定边、轴或路径定义的方向上对齐选定的特征。
对路径的修改将更新阵列特征的间距和距离。
与列一样,指定行中排列多个引用。
在行中选择要在其中添加引用的方向。方向箭头的起点位于选择点。路径可以是二维或三维直线、圆弧、样条曲线、修剪的椭圆或边。路径可以是开放回路,也可以是闭合回路。
对路径的修改将更新阵列特征的间距和距离。指定阵列的“开始”、“终止方式”和“定位方式”。
优化 通过阵列特征面来创建选定的特征的完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法,限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能,可加快阵列计算速度。
完全相同 通过复制原始特征的结果来创建选定的特征的完全相同的副本。不能使用优化方法时,可使用此项来获得完全相同的特征。
调整 通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式,来创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列,计算时间会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件(例如终止于模型面上的特征)进行调整,来保留设计意图。
完全相同 阵列中每个引用的定位方式都和选定的第一个特征的定位方式相同。
调整为方向 1 或方向 2 指定控制阵列特征的位置的方向。对每个引用进行旋转,使其根据所选的第一个特征将方向保持为路径的二维相切矢量。角度随该阵列中的每个引用而增大。要获得最佳结果,请将第一个引用置于路径的起点。