半導体封止成形

半導体封止成形プロセスでは、次の解析順序を利用できます。

この成形プロセス シミュレーションは、次のメッシュ タイプで利用できます。
解析順序 メッシュ タイプ
充填(圧縮性) Midplane Dual Domain
充填+保圧 3D
充填+ 保圧(圧縮性) Midplane Dual Domain
流動(非圧縮性) Midplane Dual Domain
充填+保圧+反り 3D
充填+保圧+反り(圧縮性) Midplane
充填+保圧+ワイヤースイープ 3D
流動+ワイヤースイープ+保圧(圧縮性) Midplane Dual Domain
流動+ワイヤースイープ(非圧縮性) Midplane Dual Domain
充填+保圧+ワイヤースイープ詳細 3D
充填+保圧+パドル シフト 3D
充填+保圧+パドル シフト(圧縮性) Midplane Dual Domain
流動+パドル シフト(非圧縮性) Midplane Dual Domain
充填+保圧+ダイナミック パドル シフト 3D
充填+保圧+パドル シフト+ワイヤースイープ 3D
流動+保圧+ワイヤースイープ+パドル シフト(圧縮性) Midplane Dual Domain
流動+ワイヤースイープ+パドル シフト(非圧縮性) Midplane Dual Domain
充填+保圧+ダイナミック パドル シフト+ワイヤー スイープ 3D
ランナーバランス(圧縮性) Midplane Dual Domain
ランナーバランス(非圧縮性) Midplane Dual Domain
冷却(FEM) 3D
冷却(FEM)+充填+保圧 3D
冷却(FEM)+充填+保圧+反り 3D
冷却(FEM)+充填+保圧+ワイヤー スイープ 3D
冷却(FEM)+充填+保圧+ワイヤー スイープ詳細 3D
冷却(FEM)+充填+保圧+パドル シフト 3D
冷却(FEM)+充填+保圧+ダイナミック パドル シフト 3D
冷却 (FEM)+充填+保圧+パドル シフト+ワイヤー スイープ 3D
冷却 (FEM)+充填+保圧+ダイナミック パドル シフト+ワイヤー スイープ 3D
要確認: 流動は解析順序(充填 + 保圧)を表します。
注: 3D メッシュ タイプでは、入力した pvT データに応じて解析が実行されるため、圧縮性または非圧縮性を選択するオプションはありません。

また、プロセス設定ウィザードからアクセスできる[ソルバー パラメータ]ダイアログ ボックスの[ベンディング解析]タブのオプションを選択すると 、[ベント解析](のみ3D)を実行できます。