环境光遮挡是指阻挡对象上的间接或漫反射光线。它指对象的较暗区域,通常为折痕、裂缝和缺口。环境光遮挡的形成原因是:间接光线无法反弹和照亮由附近吸收光线的对象遮挡的区域。这些光线的细微变化对我们的眼睛是一种提示,可检测本该褪色和不易察觉的曲面细节和区别。环境光遮挡可在缺口、角落和裂缝等中添加阴影,从而使场景更逼真。对于每个曲面点,它会计算多少光被其他几何体遮挡。
在下面的示例中,由于冰块之间的阴影而使它们更醒目。由于冰砖遮挡了光线,因此冰砖之间的裂缝看起来更暗。这就是环境光遮挡。
有时场景中的光线可能过于明亮,从而掩盖了曲面细节。环境光遮挡可模拟多云天空产生的阴影 — 它突出裂缝和缺口,同时使光线柔和地布满场景。如果场景包含许多遮挡的缺口,或要向场景中添加软阴影,请使用环境光遮挡。
例如,环境光遮挡的示例应用包括创建用于合成的方法。
可使用以下方法之一计算环境光遮挡:
“mib_fg_occlusion”和“mib_amb_occlusion”算法将半透明对象视为不透明的。遮挡光线不会穿透通过这些对象。
使用"mib_fg_occlusion"着色器计算遮挡与直接使用最终聚集不同。在前一种情况中,实际上不会反弹光线。“mib_fg_occlusion”着色器算法只使用预计算最终聚集点来发射光线以及平滑和过滤最终聚集的算法。
若要在 mental Ray for Maya 中烘焙遮挡,请选择照明/着色 > 批烘焙(mental Ray)(Lighting/shading > Batch Bake (mental Ray))。在“纹理烘焙集覆盖”(Texture Bake Set Override)(或“顶点烘焙集覆盖”(Vertices Bake Set Override))部分中选择“颜色模式”(Color Mode)下的“遮挡”(Occlusion)。您也可以在 textureBakeSet 节点下启用“遮挡深度”(Occlusion Deep)属性以在烘焙结果中包括透明度。
有关批烘焙选项的详细信息,请参见照明/着色 > 批烘焙(mental ray)(Lighting/shading > Batch Bake (mental ray))。有关“遮挡深度”(Occlusion Deep)的详细信息,请参见在 mental ray for Maya 中烘焙环境光遮挡和纹理烘焙集。
可运行仅渲染环境光遮挡的遮挡过程。这可用作接触阴影过程。详细信息请参见使用层预设。