マスク ブロックの位置を変更するには

マスク ブロックの回転、立面図、位置をプロパティ パレット上で変更するには、次の手順を実行します。

マスク ブロックの位置は、挿入点の座標値を変更することで変更できます。 また、マスク ブロックの方向は、WCS または現在の UCS を基準にしています。 たとえば、マスク ブロックの最上部と最下部が XY 平面に平行である場合、その法線は Z 軸に平行です。 マスク ブロックの方向は、その法線を別の軸に合わせることで変更できます。 マスク ブロックの回転角度を変更することで、マスク ブロックをその平面上で回転することもできます。

1. 変更するマスク ブロックをダブルクリックします。
2. [プロパティ]パレットで、[基本] [位置]を展開します。
3. 次のように、マスク ブロックの位置を指定します。

   次の操作を行いたい場合	次のように操作します
   回転を変更するには	[回転角度]に新しい値を入力します。
   立面図を変更するには	[立面図]に新しい値を入力します。

4. [追加情報]をクリックし、次のようにマスク ブロックの位置を指定します。

   次の操作を行いたい場合	次のように操作します
   マスク ブロックの位置を変更するには	[挿入点]に新しい座標値を入力します。
   マスク ブロックを XY 平面に配置するには	マスク ブロックの法線を Z 軸と平行にします。 [法線]領域で、[Z]に 1 を、[X]と[Y]にそれぞれ 0 (ゼロ)と入力します。
   マスク ブロックを YZ 平面に配置するには	マスク ブロックの法線を X 軸と平行にします。[法線]領域で、[X]に 1 を、[Y]と[Z]にそれぞれ 0 (ゼロ)と入力します。
   マスク ブロックを XZ 平面に配置するには	マスク ブロックの法線を Y 軸と平行にします。 [法線]領域で、[Y]に 1 を、[X]と[Z]にそれぞれ 0 (ゼロ)と入力します。
   マスク ブロックの回転を変更するには	[回転角度]に新しい値を入力します。