Extension 3 のモデリングに関する新機能

シンメトリ(Symmetry)の改善

コンポーネントを選択している場合にシンメトリ(Symmetry)をオンにすると、Maya LT で適切なミラー コンポーネントが自動的に選択されます。また、コンポーネントが有効な場合、ヘッドアップ ディスプレイの要素(HUD element)でシンメトリの現在の軸が表示されるようになりました。

また、新しい反転(Flip)コマンドを使用すると、シンメトリの軸全体のコンポーネントを入れ替えできます。詳細については、「非シンメトリ コンポーネントをシンメトリ化する」を参照してください。

さらに、シンメトリのサポート範囲が次のツールにまで広がりました。

UV エディタ(UV Editor)の改善

UV エディタ(UV Editor)ツールでは多数の点が改善されています。
  • UV エディタ(UV Editor) (イメージ > UV の歪み(Image > UV Distortion > ))のUV の歪み(UV Distortion)オプションでは、シェル単位またはオブジェクト単位の歪みエラーを表示します。詳細については、「UV の歪みを特定する」を参照してください。
  • UV レイアウト(Layout UVs)」が、カスタマイズ可能な結果を得られる新しいアルゴリズムで更新されました。
  • シンメトリ化 UV ツール」を使用すると、シンメトリの線全体に UV を簡単にレイアウトできます。「UV のシンメトリ化」を参照してください。

UV シェルの自動継ぎ目(Auto Seams)

新しい自動継ぎ目(Auto Seams)コマンドを使用すると、メッシュまたは UV シェルの適切な継ぎ目を自動的に選択およびカットできます。このため、エッジを手動で選択およびカットする必要がありません。また、誤ってエッジを欠落することがなくなります。「自動継ぎ目(Auto Seams)」を参照してください。

ブレンド シェイプのスカルプト ツール

シェイプ オーサリング(Shape Authoring)」のワークフローを特別にサポートするために、「スカルプト ターゲット ツール」の新しいセットが追加されました。これには、次のボタンが含まれています。

ベベルの改善点

バベル(Bevel)操作をより正確に制御できるように、深度(Depth)留め継ぎ(Mitering)、および面取り(Chamfer)に関連する新しいアトリビュートを追加し、ベベル オプション(Bevel Options)を更新しました。詳細については、「ベベル オプション(Bevel Options)」を参照してください。

ブリッジの方向(Bridge Direction)

ブリッジ(Bridge)コマンドを使用する場合、ソースとターゲットのエッジ/フェースをブリッジする方向を選択できるようになりました。「ブリッジ オプション(Bridge Options)」を参照してください。

親のないコンポーネントのクリーンアップ

モデリング操作中に作成された親のないコンポーネントを削除するには、メッシュ クリーンアップを実行する前に、新しい分離コンポーネント(Isolated Components)オプション(メッシュ > クリーンアップ(Mesh > Cleanup))を選択します。「クリーンアップ オプション(Cleanup Options)」を参照してください。

メッシュのピボット ポイントの結合

結合(Combine)コマンドを使用して個別のメッシュを 1 つに結合する場合、新しく結合されたメッシュのピボットが表示される場所を指定できるようになりました。「結合オプション(Combine Options)」を参照してください

カスタム ピボットの改善

ピボットの方向をベイク処理(Bake Pivot Orientation)の名前がピボットをベイク処理(Bake Pivot) (修正 >ピボットをベイク処理(Modify > Bake Pivot))に変更されました。既定では、ピボットをベイク処理(Bake Pivot)は編集したピボットの位置と方向をベイク処理しますが、新しいピボットをベイク処理オプション(Bake Pivot Options)を使用すると、位置または方向のみがベイク処理されます。修正 > ピボットをベイク処理(Modify > Bake Pivot)を参照してください。

押し出し(Extrude)の改善

押し出し(Extrude)コマンドの厚みアルゴリズムの改善により、押し出し(Extrude)を使用してメッシュに厚みを持たせる場合に結果を予測しやすくなりました。

表示/非表示コンポーネントの改善

コンポーネントの表示と非表示の切り替えは、オブジェクトの非表示や表示と同様にできるようになりました。「コンポーネントを表示、または非表示にする」を参照してください。

ミラーの改善

ジオメトリのミラー(Mirror Geometry)ミラー カット(Mirror Cut)が、新しい強力なミラー ワークフローをサポートするミラー(Mirror)コマンドに統合されました。「ミラー オプション(Mirror Options)」を参照してください。

UV の移動(Nudge UVs)の改善

UV の移動(Nudge UVs)で、微調整できるように小数位を 1 桁余分にサポートするようになりました。「UV エディタでシェルおよびコンポーネントを移動する」を参照してください。

事前選択ハイライトの改善

事前選択ハイライトを使用してコンポーネントをハイライト表示するために必要な最小限のカーソル距離を、選択項目プリファレンスで変更できます。また、精度も改善されています。特に、ワイヤフレーム モードになっている他のコンポーネントの背後にあるコンポーネントを選択しようとするとき、またはカーソルがメッシュの外側のみに置かれる場合の精度について大きく改善されています。「コンポーネントを選択する前にハイライトする」を参照してください。

オブジェクトの法線に沿って投影

方向の一致(Conform)操作で法線に沿って投影できるようになりました。既定では、新しい法線に沿う(Along Normals)オプションは「コンフォーム オプション(Conform Options)」(メッシュ > 方向の一致(Mesh > Conform))で選択されています。ライブ サーフェス上に選択したオブジェクトの頂点がその法線の方向に沿って投影されます。

サブディビジョン方法の表示

ポリシェイプ ノードは、現在のグローバル サブディビジョン方法をカッコに入れて、サブディビジョン方法(Subdivision Method)アトリビュートの横に表示します。このため、このアトリビュートを設定する方法を決める場合、プリファレンス(Preferences)に移動する必要がありません。「スムーズ メッシュ(Smooth Mesh)ノード」を参照してください。

四角ポリゴン描画ツール(Quad Draw Tool)の改善

四角ポリゴン描画ツール(Quad Draw Tool)には多数の改善点があります。
  • 新しいバックフェースにスナップ(Snap to Backfaces)オプションを使用すると、前方または後方(法線の反転)のフェース上にドットを作成できます。「四角ポリゴン描画ツール オプション(Quad Draw Tool Options)」を参照してください。
  • ライブ オブジェクト上の描画ポイントでシンメトリ(Symmetry)を使用できるようになりました。

他のオブジェクトのエッジに合わせたフェースのウェッジ

フェース ウェッジ操作の参照ポイントとして、他のオブジェクトのエッジを使用できるようになりました。このため、ガイドとしてオブジェクトを一時的に使用し、複雑な配管などのモデリングをすばやく簡単に作成できます。「円弧またはウェッジのシェイプにポリゴンを押し出す」を参照してください。

スカルプト時のワイヤフレーム

メッシュをスカルプトするときに表示されるワイヤフレームの透明度とカラーを調整できるようになりました。「スカルプト ツールの設定」を参照してください。

分割の追加(Add Divisions)の制限を除去する

分割の追加(Add Divisions)での分割レベルが最大 4 つに制限されなくなりました。「分割の追加オプション(Add Divisions Options)」を参照してください。