手続き型マッピングのフラッテン マッピング手法を使用すると、指定した角度しきい値の範囲内にある連続テクスチャ ポリゴンのグループに、平面マップが適用されます。フラッテン マッピングは、マッピング クラスタどうしが重ならないようにします。ただし、テクスチャに歪みを発生させることがあります。[フラッテン マッピング](Flatten Mapping)ダイアログ ボックスでは、クラスタを定義およびマッピングする方法を制御します。
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[UVW アンラップ モディファイヤ](Unwrap UVW Modifier) > [UV を編集](Edit UVs)ロールアウト > [UV エディタを開く](Open UV Editor)ボタン > [UVW を編集](Edit UVWs)ダイアログ ボックス > [ポリゴン](Polygon)サブオブジェクト レベル > [分解](Explode)ロールアウト >
[フラット化設定](Flatten Settings)ボタン([フラット化 : カスタム](Flatten: Custom)フライアウト上)
インタフェース
- 面角度しきい値
- クラスタ内の面と面との間の可能な最大角度。フラッテン マッピングではマッピングされる面が収集される際に、このパラメータが使用され、どのテクスチャ ポリゴンを 1 つのクラスタに統合するかが決定されます。
高い値を指定するほど生成されるクラスタが大きくなり、それに従って歪みも大きくなります。この歪みは、テクスチャ ポリゴンのプロポーションが、ジオメトリの該当するプロポーションからずれた結果として発生します。
- ハッチング間隔
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クラスタ間の間隔。
高い値を設定するほど、クラスタ間のギャップが大きくなります。
- クラスタを平均化
- オンにすると、エディタの標準のマッピング領域内にフィットするように、最終のレイアウトが 1.0 の正方形単位に縮小されます。オフにすると、クラスタの最終のサイズはオブジェクト空間内になり、エディタのマッピング領域よりもはるかに大きくなる傾向があります。最良の結果を得るためには、このオプションを有効にしたままにしてください。
- クラスタを回転
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オンにすると、UVW アンラップでクラスタを回転してそのバウンディング ボックスのサイズを最小化します。たとえば、45 度回転した長方形のバウンディング ボックスは、90 度回転したものよりも多くの領域を占有します。
- 穴部分に配置
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オンにすると、大きいクラスタ内のマージンに小さいクラスタが配置され、使用できるマッピング スペースが最も効率的に利用されます。
- マテリアルID別
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オンにすると、フラット化の後、いずれのクラスタにも 2 つ以上のマテリアル ID は含まれなくなります。
- OK
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設定を確定してダイアログ ボックスを閉じ、指定に従ってマッピングを実行します。
- キャンセル
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加えた変更をすべてキャンセルし、ダイアログ ボックスを閉じます。
- 既定値として設定
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現在の設定を、現在のセッションで使用する既定値とします。