在 2022.1 中,三切面投影不再为高度弯曲的对象创建微小的 UV 孤岛。
我们向 UV 编辑器的“投影”部分添加了“较少的孤岛”选项。使用基于三切面的投影方法时,它可减少 UV 布局的孤岛数,以提高纹理质量。在“UV 生成”设置为三切面和布局的情况下,此选项将在“烘焙灯光和阴影”模块中自动启用,以创建基于三切面的 UV 集。