自動或手動檢視設計、指定模式、顯示並另存成影像,或停用光跡追蹤。
新增功能:2023
若變更視圖方位或開始另一個指令,將會中斷光跡追蹤過程。在適用的情況下 (例如使用「環轉」時),當停止使用作用中的指令時,光跡追蹤過程會重新初始化。對於其他指令,光跡追蹤將自動停用。若要重新啟用光跡追蹤,請使用功能區存取點。
啟用光跡追蹤時,對話方塊會在顯示的右下角展開,可讓使用者存取三種模式。該程序使用預設設定開始。完成後,光跡追蹤對話方塊會在數秒後自動隱藏。將游標移動至對話方塊區域會導致重新顯示該列。
依預設,不會啟用「光跡追蹤」來自動彩現場景。
照明和材料精度
來自半粗糙材料的柔和陰影和柔和反射將以高品質等級彩現。這是針對最終高品質彩現的標準設定。
儲存、暫停或停用進行中的場景彩現
請使用下列方法之一:
依預設會停用「光跡追蹤」。您可以將其做為應用程式選項為所有模型啟用,或使用「文件外觀」設定逐個文件進行啟用。由於光跡追蹤僅搭配使用兩種特定的視覺型式,因此,僅在其中一種型式處於作用中狀態時,光跡追蹤才會自動初始化。
使用應用程式設定:
使用文件設定:
您可能注意到「光跡追蹤」對話方塊的右上角顯示 CPU。從 Inventor 2023 GPU 光跡追蹤開始提供搶鮮版選項。當正在使用選項時,此區域將展示 GPU。
如果要進一步瞭解或使用此選項,如果您的硬體支援 GPU 光跡追蹤,請參閱〈GPU 光跡追蹤 (搶鮮版) 詳細資料〉。