VRED 2022 引入了基于纹理的光照贴图,用于环境光遮挡、阴影以及灯光和阴影,包括直接和间接灯光以及 IES 和镭射灯光轮廓。对“烘焙灯光和阴影”模块的改进包括 CPU 和 GPU 光线跟踪支持、群集支持、烘焙镭射光文件和焦散的功能、环境光遮挡的统一和余弦权重以及新预设。我们向“渲染设置”中添加了光子跟踪,用于计算光照贴图的照明效果。
现在,可以在低多边形对象上烘焙高质量结果,而无需细分网格。使用烘焙类型选项可在顶点和纹理烘焙光照贴图生成之间切换。
请务必了解,在运行时无法更改烘焙到光照贴图中的数据。实时灯光可以叠加并在光照贴图的场景上使用,但不能交互式更改光照贴图本身。
在 VRED 2022 中,每个网格都有第二个光照贴图 UV 通道,该通道可以具有独立的 UV 布局(与材质 UV 相比)。通过 FBX 与其他工具交换的几何体可保留第二个光照贴图 UV 通道以进行导入和导出。在 UV 编辑器中,可以轻松地将 UV 从一个通道传递到另一个通道(请参见 UV 集 > 复制到光照贴图 UV 集/复制到材质 UV 集)。与基于顶点的方法相比,基于纹理的光照贴图需要更多的视频内存,因此,您需要在纹理大小和质量之间保持适当的平衡。在计算过程中,“烘焙灯光和阴影”模块可以基于三切面贴图或使用 UV 编辑器的展开设置自动生成光照贴图 UV。根据您的场景数据,某些对象可能需要在 UV 编辑器中手动修改,才能获得最佳结果。
网格必须具有正确的 UV 才能计算光照贴图。理想情况下,光照贴图 UV 使用最大的可用 UV 空间,几乎没有扭曲和断开连接的 UV 孤岛,并且其间具有足够的空间以用于光照贴图纹理所需的边扩张。
仅适用于执行了烘焙计算且烘焙类型为纹理的节点。
查看视口中所选几何体的光照贴图的阴影和照明贴图预览。加载、保存、重新加载或删除纹理图像,以及设置是否使用外部纹理参照。有关详细信息,请参见光照贴图部分。
为了更好地判断场景中的烘焙结果,请在“可视化”菜单中的不同可视化模式之间切换,或直接在 UV 编辑器中仔细检查光照贴图纹理。
我们添加了对基于纹理的光照贴图的 GPU 和 CPU 群集的支持。
记住以下几点:
localhost
是群集设置的一部分时,请确保 localhost
主计算机上的显卡具有足够的内存,因为主计算机需要将场景保留两次。localhost
是群集设置的一部分时,请确保您有足够的 RAM。使用 VRED 群集可将光照贴图和光照贴图 UV 生成计算分布在多台计算机上。
无法使用 GPU 光线跟踪或 VRED Cluster 计算基于顶点的阴影。
权重仅在选择了“环境光遮挡”时可用。它为顶点烘焙和纹理烘焙设置应用于环境光遮挡的权重。
这是 VRED 2021.3 及先前版本中用于计算权重的初始设置。与“余弦”设置相比,阴影更均匀,但是没有那么多的变化和深度。
提供比统一权重更逼真的结果。阴影的深度更大,但没有那么均匀。
启用后,将为场景中的克隆共享光照贴图。禁用后,将在计算光贴图之前,为场景中同一几何体的克隆计算不同的光贴图。
在“烘焙灯光和阴影”模块 > 光照贴图部分中找到为克隆共享光照贴图选项。
这是具有智能参照的克隆的预期行为:
不同文件参照中的节点不能是克隆 - 文件参照 a.vpb
中的节点不能是参照 b.vpb
中节点的克隆。由于每个文件都单独存储,因此每个文件都属于文件各自的参照。文件参照中的节点也不能是常规场景中节点的克隆。在这些情况下,需要节点的副本。在相同的文件参照中,克隆没有限制。
一个文件参照的所有“实例”都必须是克隆 - 当多次使用参照 a.vpb
时,所有 a.vpb
都是克隆。这也意味着,每个 a.vpb
实例的所有子项都是所有其他 a.vpb
子项的克隆。
克隆上的光照贴图可以不同 - 当场景中一个长方体有两个克隆时,可以为这两个克隆计算不同的光照贴图。在计算光照贴图之前,只需取消选中为克隆共享光照贴图。
文件参照中的同一个克隆不能有不同的光照贴图 - 在 a.vpb
文件参照中使用了一个长方体,并且该文件参照在场景中使用了两次。您不能为该长方体计算不同的光照贴图,因为该文件仅存在一次,并且仅写入一次。因此,该长方体仅存储一次。
您希望在文件参照的同一个克隆上使用不同的光照贴图 - 手动更改场景来实现此目的。在大多数情况下,这意味着移除文件参照并将其替换为普通的组节点。
我们向 Python 文档添加了以下用于光照贴图的 Python 命令。请单击以下链接了解有关相应命令的信息。
对“烘焙灯光和阴影”模块进行了大量改进。添加了文件和选择菜单、更多设置选项、烘焙设置和高级选项卡,其中包含新的部分和选项,大多数都与新的纹理烘焙类型相关。
我们向 Python 文档添加了用于光照贴图的 Python 命令。有关这些新命令的列表,请查看用于光照贴图的 Python。
添加了用于加载、保存光照贴图和更新光照贴图路径位置的选项。有关每个选项的信息,请参见“烘焙灯光和阴影”的“文件”菜单部分。
我们添加了选择选项,以帮助识别已烘焙或未烘焙的节点,具有活动或非活动烘焙类型的节点。
我们添加了用于加载和保存光照贴图以及用于保存、编辑和访问烘焙预设的选项。
“烘焙设置”选项卡包含用于配置直接照明和间接照明、细分、光照贴图行为、光照贴图 UV 生成以及设置烘焙类型和最后计算烘焙的参数。下面是一些亮点:
“高级”选项卡包含用于查看在视口中烘焙场景中的选定对象时所用设置的参数。请参见应用的烘焙设置,以及阴影和照明贴图预览。将纹理另存为 .exr
文件,以及使用活动烘焙选项禁用烘焙或在纹理和顶点之间切换。