「光跡追蹤」對話方塊參考

提供增強的視覺化體驗，可讓您製作設計的擬真視圖時，降低對單獨的彩現環境的需求。

新增功能：2024.2

存取：

在「檢視」頁籤 「外觀」面板上，按一下「視覺型式」，然後選取「擬真」或「單色」。這些是唯一能夠啟用「光跡追蹤」選項的視覺型式。

在「檢視」頁籤 「外觀」面板上，按一下「光跡追蹤」。

彩現模式定義

品質

照明

• 低模式和拔模模式會產生相對較平直的照明貢獻。
• 緞面加工不會彩現，與高模式相比，來自一個方向的光源可能更強。

低	拔模	高

材料

• 低模式會展示較少位移或凸紋表現法。
• 拔模模式提供改善的位移及更多陰影貢獻。
• 高模式提供完整定義解析度。

低	拔模	高

陰影

• 在低模式和拔模模式中會約略估計陰影。
• 低模式使用光源做為環境光源。這可能會產生過度照明的場景和最小陰影。
• 拔模可約略估計間接照明，但存在限制。
• 高模式以擬真方式顯示環境照明以及產生的陰影和反射。

低	拔模	高

光跡追蹤控制

展開/收闔

按一下該箭頭可收闔彩現模式區段。將游標移至列標題區域可展開模式區段。

品質

顯示三個彩現選項。預設為「低」。選取其他模式會中止光跡追蹤過程，然後使用選取的模式設定重新開始。如果您使用縮放、環轉、變更照明、修改設定等方式來變更視圖，則該程序也會停止並重新啟動。

低

針對粗糙和半粗糙材料會進行約略估計。因此，材料可能比預期上看起來更亮。針對直接照明會進行約略估計，而將間接照明視為固定環境顏色。陰影將遺失細節。適合快速預覽室外/產品彩現，但不適合室內場景。

拔模

針對粗糙和半粗糙材料會進行約略估計。因此，材料可能比預期上看起來更亮。針對照明會進行約略估計，因此陰影將遺失細節。適用於快速預覽。

高

來自半粗糙材料的柔和陰影和柔和反射將以高品質等級彩現。這是針對最終高品質彩現的標準設定。

進度

根據彩現選取顯示顯示細分的進度。顯示已完成的百分比及消耗的時間。

儲存

暫停顯示細分的進度，並儲存目前彩現完成狀態下的影像。

暫停

在目前的細分狀態下中斷光跡追蹤過程。按一下「繼續」可繼續光跡追蹤過程。變更視圖方位或設定會導致光跡追蹤過程重置並重新開始。

停用

中止光跡追蹤過程。關閉光跡追蹤介面。