以阵列样式排列零件特征的步骤

使用特性面板创建矩形、圆形和草图驱动的阵列。特性面板会基于选定的阵列类型、选择模式和方向选择器提供选择和几何图元选项，以指定阵列的位置。

新特性：2023.2、2025、2026

关键概念

特性面板工作流是一个从面板的顶部到底部逐步完成的工作流。一个部分中的参数会影响特征，并为面板中下面的各个部分设置上下文。
从特性面板中通过单击面包屑导航文本将其选中，然后再次单击以编辑该文本，重命名激活的阵列。
可以在“特性”面板中、在画布中编辑参数值，也可以通过单击并拖动特征参数操纵器进行编辑。激活的操纵器在画布中将亮显，并且在特性面板中，焦点将落在关联的字段上。
可以通过按 Enter 键或 Tab 键移至下一个字段，提交“特性”面板中编辑的值。按 Ctrl+Enter 组合键可创建抽壳并关闭特性面板。
参考尺寸不可编辑，将显示在圆括号内。
在编辑特征和草图的过程中提供了预览控件。

阵列特性面板具有一个固定到一侧的工具选项板。如果需要，您可以将其拖走，使这两者分离。若要重新连接它们，请单击其中一个并将其拖动到另一个的旁边，当蓝边出现时，松开鼠标按钮。当光标靠近特性面板时，工具选项板将捕捉到的一侧会亮显。

工具选项板可用于选择阵列类型并更改选择过滤器优先级（特征或实体）。

输入反馈

当某个值与特征的其他方面冲突时，特性面板和 HUD 中会显示警告标记。将光标悬停在标记上可查看工具提示信息。

以矩形阵列样式排列零件特征或实体

“矩形阵列”工具可复制特征或实体并按矩形阵列样式排列结果（沿路径或从原始特征的两个方向）。

单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “矩形阵列”。
在工具选项板中，指定要创建阵列的内容：
- 形成实体阵列，包括不能单独形成阵列的特征。也可以包括定位特征和曲面特征。在部件中不可用。
- 形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。无法形成部件定位特征阵列。
在特性面板中，几何图元选择器将立即处于活动状态。您可以开始选择一个或多个要包含在阵列中的特征或实体。对于零件，还可以选择要包含在阵列中的定位特征和曲面特征。
通过指定以下选项，对齐行和列阵列中的选定特征：

注意：选择工作平面或平面后，平面的法向作为线性方向。
- 方向选择要在其中添加引用的方向。方向箭头的起点位于选择点。路径可以是二维或三维直线、圆弧、样条曲线、修剪的椭圆、边、圆柱面或基准轴。路径可以是开放回路，也可以是闭合回路。
- 中间平面 创建一个阵列，从中可以在原始特征的两侧分布引用。对于矩形阵列，可以为任一方向（“方向 1”、“方向 2”）单独使用中间面。
- 数量指定列或线性路径中引用的数量。必须大于 0。
- 分布指定距离的测量方式。
  - 增量定义特征之间的间距。首先指定阵列中引用的数量和距离。阵列占用的总面积已被计算出来。
  - 范围在选定曲线长度内均匀分布的阵列数。必须大于 0。
- 距离指定引用之间的间距或距离，或者列或行跨越的距离。可以输入负值来创建相反方向的阵列。
- 如果需要，单击以添加具有不规则距离的成员。
在边界内阵列特征。边界选项仅在零件造型中可用。
- “边界”。单击以选择定义边界的面或轮廓。可以随时更改边界（无论是面还是轮廓），也可以通过取消选择边界来不再使用边界。
- “偏移”。偏移选定边界，从而在边界线和偏移线之间创建隔离区域。在边界内有三个选项可用于阵列。这些步骤分别是：
  - 包含几何图元 - 完全位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。定向边界方框用于计算特征是否在边界内。
  - 包含形心 - 形心位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。
  - 基点 - 单击基点选择器，然后在引用上选择基点。基点在边界内的所有引用都将用于阵列。若要重新定义基点，请单击选择器，然后选择其他点作为基点。请注意，选择新点后，选定对象将会更新。
如果阵列实体，请选择操作：
- 求并将阵列附着到选择的实体上。形成单个、统一的实体阵列。
  - 新建实体 创建包含多个独立实体的阵列。
1. 设置阵列特征的创建方法：
- “优化”。通过阵列特征面创建与选定特征完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能，可加快阵列计算速度。
- “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用“优化”方法时，可使用此项来获得完全相同的特征。
- “调整”。通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。
  
  注意：用“优化”或“相同”方法创建的阵列比用“调整”方法创建的阵列的计算速度快。如果调整平面，则阵列操作将会终止。结果是特征的大小和形状与原始特征不同。
单击“确定”。

以环形阵列样式排列零件特征或实体

“环形阵列”命令可将选定特征或实体的引用排列为圆弧或环形阵列。该命令可复制一个或多个特征或实体，然后以圆弧或圆形样式按特定的数量和间距排列生成的引用。

单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “环形阵列”。
在工具选项板中，指定要创建阵列的内容：
- 形成实体阵列，包括不能单独形成阵列的特征。也可以包括定位特征和曲面特征。在部件中不可用。
- 形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。无法形成部件定位特征阵列。
在特性面板中，几何图元选择器将立即处于活动状态。您可以开始选择一个或多个要包含在阵列中的特征或实体。对于零件，还可以选择要包含在阵列中的定位特征和曲面特征。
通过指定以下选项，对齐行和列阵列中的选定特征：

注意：选择工作平面或平面后，平面的法向作为线性方向。
- 方向选择重复引用所围绕的轴（枢轴点）。轴可以在与阵列特征不同的平面上。
- 中间平面 在原始特征（通常在居中位置创建）的两侧分布特征引用。引用数量为偶数时，使用“反向”确定取得额外引用的一侧。
- 数量指定阵列中引用的数目。
- 分布：指定角度的测量方式。
  - 增量定义特征之间的间距。首先指定阵列中引用的数量和角度。阵列占用的总面积已被计算出来。
  - 范围使用角度定义阵列特征占用的总区域。首先指定阵列中引用的数量和总角度。引用之间的间距将被计算出来。如果设计有可能变化，请使用“范围”放置方法，因为引用之间的间距将根据设计意图更新。
- 角度引用之间的角度间距取决于放置方法。如果选择“增量”放置方式，此角度指定了两个引用之间的角度间隔。如果选择“范围”放置方法，则角度指定了阵列所占用的总面积。输入负值以在相反方向创建阵列。
- 方向：指定阵列的方向。
  - 旋转如果您希望实体或特征集在绕轴移动时更改方向，请选择该选项。
  - 固定如果您希望实体或特征集在绕轴移动时其方向与父选择集相同，请选择该选项。
    
    （可选）选择“基准点”，然后选择一个顶点或点以重定义固定阵列基准点。
- 如果需要，单击以添加具有不规则角度的成员。
在边界内阵列特征。边界选项仅在零件造型中可用。
- “边界”。单击以选择定义边界的面或轮廓。可以随时更改边界（无论是面还是轮廓），也可以通过取消选择边界来不再使用边界。
- “偏移”。偏移选定边界，从而在边界线和偏移线之间创建隔离区域。在边界内有三个选项可用于阵列。这些步骤分别是：
  - 包含几何图元 - 完全位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。定向边界方框用于计算特征是否在边界内。
  - 包含形心 - 形心位于边界内的所有阵列引用都用于阵列。
  - 基点 - 单击基点选择器，然后在引用上选择基点。基点在边界内的所有引用都将用于阵列。若要重新定义基点，请单击选择器，然后选择其他点作为基点。请注意，选择新点后，选定对象将会更新。
如果阵列实体，请选择操作：
- 求并将阵列附着到选择的实体上。形成单个、统一的实体阵列。
- 新建实体 创建包含多个独立实体的阵列。
设置阵列特征的创建方法：
- “优化”。通过阵列特征面创建与选定特征完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能，可加快阵列计算速度。
- “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用“优化”方法时，可使用此项来获得完全相同的特征。
- “调整”。通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。
单击“确定”。

有边界阵列

以下是使用限制到边界的阵列时要记住的要点。

偏离角度边界平面（不平行于特征法线）可能导致不同的结果，如下图所示。

注意：如果边界平面和特征不相交，则将禁用完全封闭的几何图元选项。

如果创建或编辑边界平面时，使该平面与要阵列化的特征不相交，则会创建错误条件并显示一条消息。几何图元必须与边界平面相交。

以阵列样式将零件特征或实体排列在草图点上

“草图驱动的阵列”命令可以将特征或实体的引用排列在二维或三维草图点上。该命令可复制一个或多个特征或实体，然后以草图点定义的阵列样式排列生成的引用。

在模型上的二维或三维草图中创建草图点，然后以所需的阵列样式排列这些点。
单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “草图驱动”。
在工具选项板中，指定要创建阵列的内容：
- 形成实体阵列，包括不能单独形成阵列的特征。也可以包括定位特征和曲面特征。在部件中不可用。
- 形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。无法形成部件定位特征阵列。
在特性面板中，几何图元选择器将立即处于活动状态。您可以开始选择一个或多个要包含在阵列中的特征或实体。对于零件，还可以选择要包含在阵列中的定位特征和曲面特征。
如果有多个草图或草图不可见，请选择要使用的草图。
指定放置：
- 草图点 选择二维或三维草图以获取所有中心点。
- 基点选择顶点或点以更改引用原点。
- 方向：指定阵列的方向。
  - 固定如果您希望实体或特征集沿草图创建时其方向与父选择集相同，请选择该选项。
  - 遵循面 选择是否希望实体或特征集遵循面。
如果阵列实体，请选择操作：
- 求并将阵列附着到选择的实体上。形成单个、统一的实体阵列。
- 新建实体 创建包含多个独立实体的阵列。
设置阵列特征的创建方法：
- “优化”。通过阵列特征面创建与选定特征完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能，可加快阵列计算速度。
- “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用“优化”方法时，可使用此项来获得完全相同的特征。
- “调整”。通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。
单击“确定”。

以镜像阵列样式排列零件特征或实体

“镜像”命令可在平面中相等的距离处创建一个或多个特征、整个实体或新实体的反向副本。使用工作平面作为镜像平面的现有平面。

执行以下操作之一：
- 在零件文件中，单击“三维模型”选项卡 “阵列”面板 “镜像”。
- 在部件文件中，单击“装配”选项卡 “阵列”面板 “镜像”。
在“镜像”对话框中，指定要镜像的对象：
- “镜像各个特征”。选择要镜像的实体特征、定位特征和曲面特征。如果所选特征带有从属特征，则它们也将被自动选中。在部件中，仅可以镜像基于草图的特征。不能镜像：
  - 部件定位特征。
  - 使用多条边定义的单个钣金凸缘和异形板特征。
  - 在整个实体上操作的特征（所有圆角、所有圆边、抽壳）。
  - 基于求交操作结果的特征。
- “镜像实体”。选择零件实体。允许您在选择中选择性地包含定位特征和曲面特征。
在图形窗口或浏览器中，选择要镜像的特征。
在“镜像”对话框中，单击“镜像平面”，然后选择要用作镜像平面的工作平面或平面。使用“装配”选项卡上的“镜像零部件”。
在多实体零件中，选择“实体”，然后选择实体来接收镜像特征。
如果要镜像实体，请选择操作，并确定是否需要删除原始实体：
- “求并”。将特征合并到选定实体中。
- “新建实体”。在多实体零件中创建实体。
- “删除原始特征”。删除原始实体。零件文件中仅保留镜像引用。用于对零件的左侧和右侧版本进行造型。
单击“更多” 以指定镜像特征的计算方式：
- “优化”。通过镜像特征面来创建选定特征的完全相同副本。“优化”是最快的计算方法，但是存在一些限制，例如，无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。加快镜像的计算速度。
- “完全相同”。通过复制原始特征的结果来创建选定特征的完全相同副本。不能使用优化方法时，可使用“完全相同”来获得完全相同的特征。计算速度比使用“调整”方法快。
- “调整”。通过镜像特征并分别计算每个镜像引用的范围或终止方式，来创建可能不同的选定特征的副本。具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使镜像引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的镜像特征）进行调整，来保留设计意图。不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的镜像。
单击“确定”。

提示：若要从镜像中删除参与件，请在浏览器中展开特征，单击鼠标右键，然后选择“删除参与件”。

控制阵列中特征的可见性

暂时抑制在阵列中显示定位特征、实体特征或曲面特征。恢复特征之前，特征将保持被抑制状态。

执行以下任意操作：
- 若要抑制或恢复阵列中所有实体特征引用的可见性，请在浏览器中选择阵列图标，单击鼠标右键，然后选择“抑制特征”或“解除抑制特征”。
- 若要抑制或恢复阵列中实体特征的单个引用的可见性，请在浏览器中展开阵列图标，选择该引用，单击鼠标右键，然后选择“抑制”或“解除抑制”。
  
  注意：单独抑制的引用必须单独恢复。
- 若要隐藏或恢复所有阵列引用中所有定位特征或曲面特征的可见性，请在浏览器中选择阵列图标，单击鼠标右键，然后选择“隐藏所有定位特征”、“显示所有定位特征”、“隐藏所有曲面”或“显示所有曲面”。
- 若要隐藏或恢复某个阵列引用中单个定位特征或曲面特征的可见性，请在浏览器中展开阵列图标，选择该引用，单击鼠标右键，然后打开或关闭“可见性”选项。

控制阵列中曲面特征的不透明度

创建曲面时，该曲面透明，且与工作平面的颜色相同。使用“透明度”选项使曲面不透明。

请执行以下操作之一：
- 若要控制所有阵列引用中所有曲面特征的不透明度，请在浏览器中选择阵列图标，单击鼠标右键，然后选择“所有曲面均不透明”或“所有曲面均透明”。
- 若要控制某个阵列引用中单个特征的不透明度，请在浏览器中展开阵列图标，然后展开引用图标。选择该特征，单击鼠标右键，然后打开或关闭“透明”选项。

编辑阵列特征

在图形窗口或浏览器中，在特征上单击鼠标右键，然后选择“编辑特征”。此时将显示特征对话框。
更改阵列类型、数量、方向或间距。
单击“确定”。

孔特征是一种特殊情况。“终止方式”为“贯通”的孔可阵列化由初始特征穿透的实体部分。如果结果不是您想要的，请将终止方式更改为“距离”。