进行任何更改后，按“应用”和“保存”以保存它们。
照明模式
设置在对材质进行交互和静帧抗锯齿时使用的默认照明模式。
预计算 - 不计算直接反射，也不计算折射或任何其他复杂的视觉效果。可与 VRED 光栅化渲染模式相媲美。
预计算 + 反射 - 这种模式使用预计算的环境光遮挡和间接照明进行渲染，并计算光源的镜面反射和折射以及正确阴影。
预计算 + 阴影 - 使用基于预计算的图像的照明和间接照明，但不使用预计算的环境光遮挡值。相反，它会根据活动环境计算阴影。
预计算 + IBL - 使用预计算的间接照明并对环境进行采样。
完整的全局照明 - 不使用任何预计算的值，但会以基于物理原理的方法对全局照明分布进行准确采样。某些功能（如光子映射）需要将渲染模式设置为“完整的全局照明”。
光子跟踪
计算场景中的全局照明。默认的 VRED 方法“完整的全局照明”提供了高质量结果，但可能需要更长的计算时间。光子跟踪可以缩短渲染清晰图像所需的时间，尤其是在室内场景中。
最常用的光子跟踪模式是“仅间接”。“焦散 + 间接”模式计算由于场景中的镜面反射材质而产生的间接照明和焦散。
光子跟踪适用于室内场景。在室外场景中，大部分灯光直接照亮场景，因此 VRED 默认模式“完整的全局照明”可能会提供更好的性能。
发射的光子数与存储的光子数并不相同。如果一个光子错过了场景，则不会存储该光子。如果一个光子在场景中反弹多次，则可能会多次存储该光子。要尽可能减少发射的光子数，请以适当的方式放置任何灯光发射器，以便大多数光子能够命中场景。
使用最终聚集时，如果光子半径太大，场景可能会出现漏光。漏光主要是由于建筑场景中的不良几何体导致的。例如，房间内部通过窗户照亮，墙壁被建模为简单平面。墙壁附近的任意几何体都会获得房间外的灯光，因为没有实际壁厚。解决方案也是进行外墙建模。减少查找半径也可解决此问题，但可能需要向场景中投射更多光子。
具有强烈间接照明的场景主要由墙壁反射的灯光所照亮，在这些场景中，最终聚集也可能会出现问题。在这些情况下，禁用最终聚集可能会为您提供更加清晰的结果。
最终聚集刷新 - 如果将“最终聚集质量”设置为 1 或更高，则可以设置光子贴图的更新频率。默认情况下，将更新每个图像采样的光子贴图，从而将许多光子发送到场景中。如果将最终聚集质量设置为“禁用”，通常只需每个帧更新一次光子贴图，然后将其用于每个图像采样，从而减少渲染时间。
关于每个采样 - 更新每个图像采样的光子贴图。这是默认设置，因为它也适用于包含动画对象的场景，这些动画对象原本可能会导致出现闪烁。
关于场景更改 - 除非激活运动模糊，否则每个帧均更新一次光子贴图。由于焦散需要许多光子，因此仍将为每个采样更新焦散贴图，同时只能更新一次间接照明光子贴图。此设置通常可实现最佳渲染性能，但需要更高的光子计数来获得无伪影结果。当渲染包含动画对象的场景时尤其如此，结果可能会在光子计数低的区域闪烁。因此，这种模式应仅用于包含静态几何体和材质的场景。
IBL 采样质量
指定用于对环境贴图进行采样的光线数。光线越多，质量就越高，但需要的时间也越长。
反射/折射采样质量
应用的原理与“IBL 采样质量”相同；设置用于采样的光线数量。
体积质量
定义数量。数字越大意味着质量越高。
模式 - 选择在光线跟踪模式下渲染体积时使用的默认设置，即光线行进或多散射。
最高质量 - 通过确定遍历每个体积的距离来设置全局体积最大质量。此设置可限制沿每条视线的所有体积的组合视觉质量。大多数情况下，介于 1 和 100 之间的值就足够了。如果遍历体积所需的总数超过最大质量，则会进行相应调整。增加此值可以提高质量，但也会降低性能，甚至可能会导致驱动程序崩溃。
交互深度 - 设置每条光线可能遇到的交互体积量。
静帧深度 - 设置每条光线可能遇到的静帧体积量。
跟踪深度
定义光线在终止之前进行的交互次数（例如，反射和折射）。数字越大意味着质量越高。
GPU 光线跟踪
自 2022.2 版起，“组播立体”用于 GPU 光线跟踪。它从两个不同的视点渲染场景，以在两个 GPU 之间分配渲染工作量。如果使用 VRED Design 和 OpenVR HMD 或 Oculus Rift，请使用此设置。