ミラー平面(Mirror Across)
次のオプションの 1 つを選択します。
- XY
- XY を指定すると、グローバル XY プレーンを基準にウェイト値がミラーリングされます(既定の設定)。
- YZ
- YZ を指定すると、グローバル YZ プレーンを基準にウェイト値がミラーリングされます。
- XZ
- XZ を指定すると、グローバル XZ プレーンを基準にウェイト値がミラーリングされます。
- 方向(Direction)
- 正負反転(Positive to Negative) (+Z を -Z に)では、指定されたミラー平面(Mirror Across)プレーンを基準にしたミラーリングの方向を指定します。
サーフェスの関連付け(Surface Association)
サーフェス上の最近接ポイント(Closest point on surface)両側のサーフェス コンポーネントが、互いに相関するスキン オブジェクトを半分にする方法を定義します。
- サーフェス上の最近接ポイント(Closest point on surface)
- ソース サーフェスとターゲット サーフェス間の最近接ポイントを検索し、これらのポイントでスキン ウェイトを滑らかに補間します。これが既定の設定です。
- レイ キャスト(Raycast)
- レイ キャスティング アルゴリズムを使用して、2 つのサーフェス メッシュ間でサンプル ポイントを定義します。これは Maya 8.5 より前のバージョンで既定のスムーズ関連付けでした。
- 最近接コンポーネント(Closest component)
- 各サンプリング ポイントで最も近接する頂点コンポーネント(ポリゴン)またはコントロール頂点(CV)(NURBS)を検索して、補間せずにそのコンポーネントや CV のスキン ウェイト値を使用します。これは Maya 8.5 より前のバージョンで既定の非スムーズ関連付けでした。
インフルエンスの関連付け(Influence Association)
スキン オブジェクトに影響するコンポーネント(スケルトン ジョイント、インフルエンス オブジェクトなど)が、ソース オブジェクトと対象オブジェクト間で相関する方法を定義します。
インフルエンスの関連付け(Influence Association)は、最大 2 つの反復で最適な相関を定義します。各反復のインフルエンスの関連付け(Influence Association)タイプは、各レベルの隣にあるプルダウン リストから設定します。比較する 2 つのスキン オブジェクトに関する知識に基づいてインフルエンスの関連付け(Influence Association)タイプを設定します。反復が完了するたびに、指定したインフルエンスの関連付け(Influence Association)タイプを使用して、残りのすべてのジョイントに次の反復が続行されます。1 つの反復だけが必要だとわかっている場合は、その他のインフルエンスの関連付け(Influence Association)レベルをなし(None)に設定すれば動作しません。
- 最近接ジョイント(Closest joint)
- 互いに最近接にあるジョイントを関連付けます。これは最初のインフルエンスの関連付け(Influence Association)の既定の設定です。
- 1 対 1(One to one)
- スキン オブジェクト同士が同じスケルトン階層を持っている場合、ジョイントを関連付けます。
- ラベル(Label)
- 定義済みのジョイント ラベルに基づいてジョイントを関連付けます。ジョイント ラベルのアトリビュートは、アトリビュート エディタ(Attribute Editor)で設定または編集できます。
- なし(None)
- 特定のインフルエンスの関連付け(Influence Association)レベルを比較しないことを指定します。
注: シンメトリ(Reflection)はスキン ウェイト ペイント ツール(Paint Skin Weights Tool)では無効になっています。スキン ウェイトの反射を行うための別の方法として、スキン > スキン ウェイトのミラー(Skin > Mirror Skin Weights)を使用することができます。
- 正規化(Normalize)
- スキン ウェイトを均等に正規化して、すべてのインフルエンスのウェイト値が各頂点で合計 1.0 になるようにします。たとえば、頂点のインフルエンス ウェイトが 1.2 と 0.8 の場合、値はそれぞれ 0.6 と 0.4 に変更されます。
- スキン クラスタ(Skin Cluster)リスト
-
スキン クラスタ(Skin Cluster)領域では、複数のスキン クラスタが適用されているジオメトリ上の個々のスキン クラスタを制御できます。
スキン クラスタ(Skin Cluster)リストには、ソース(Source)列とターゲット(Target)列があります。
- ジオメトリをクリックすることで選択すると、そのジオメトリに基づいて、スキン クラスタのリストが以下のように更新されます。
- スキン クラスタ(Skin Cluster)リスト
- このリストには、選択したジオメトリ上のスキン クラスタが表示されます。
注: スキン クラスタ(Skin Cluster)が選択されていない場合、このリストは空のままです。ジオメトリを選択して、リストを更新します。
- リストの一番上に、最近追加したスキン クラスタが表示されます。
-
- ソース(Source)
- コピー/ミラーするスキン クラスタを選択します。
- ターゲット(Target)
- コピー/ミラーしたアトリビュートが適用されるスキン クラスタです。