将特征或实体的引用排列为圆弧或环形阵列。
复制一个或多个 特征 或实体，然后在圆弧或圆阵列中以特定的数量和间距排列生成的引用。
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功能区：
“三维模型”选项卡
“阵列”面板
“环形”
为独立特征排列阵列 -
用于为独立实体特征、定位特征和曲面特征排列阵列。无法阵列部件定位特征。
特征 选择要包括在阵列中的实体特征、定位特征或曲面特征。在阵列中选择多个特征进行复制会增加计算时间。 如果零件文件包含一个以上的实体，则
实体可用。选择接收该阵列的实体。 完成特征（例如圆角和倒角）仅当其父特征被选中后才能包括在阵列中。删除面特征也是如此。
为实体排列阵列 -
用于为实体排列阵列，包括无法单独排列阵列的特征。阵列也可以包括定位特征和曲面特征。
在部件中不可用。
包括工作/曲面特征 从零件中选择一个或多个要阵列的定位特征或曲面特征。 实体 如果零件文件包含多个实体，则可用。阵列中只能包含一个实体。 
求并 -
将阵列附着到选择的实体上。用于将实体阵列为单个统一的实体。
创建新实体 -
创建包含多个独立实体的阵列。
旋转轴 -
指定重复引用围绕的轴（角的枢轴点）。轴可以在与阵列特征不同的平面上。
反向 -
使阵列的方向反向。如果选择“中间平面”且引用数目为偶数，则反向表明了取得额外引用的一侧。
放置
定义阵列中引用的数量、引用之间的角度间距和重复的方向。
数量 -
指定阵列中引用的数目。
角度 -
引用之间的角度间距取决于放置方法。如果选择“增量”放置方式，此角度指定了两个引用之间的角度间隔。如果选择“范围”放置方法，则角度指定了阵列所占用的总面积。
可以输入负值来创建相反方向的阵列。
中间面 -
指定在原始特征（通常在居中位置创建）的两侧分布特征引用。引用数量为偶数时，使用“反向”确定取得额外引用的一侧。
（更多）
确定计算和放置阵列特征的方法。
- 创建方法
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优化 通过阵列特征面来创建选定的特征的完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，存在一些限制，从而无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。在可能的位置使用此选项可加快阵列的计算速度。
完全相同 通过复制原始特征的结果来创建选定的特征的完全相同的副本。不能使用优化方法时，可以将此方法用于完全相同的特征。
调整 通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，来创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间可能会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。
注： 不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。 - 放置方法
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增量 定义特征之间的间距。首先指定阵列中引用的数量和角度。阵列占用的总面积已被计算出来。
范围 阵列使用一个角度来定义阵列特征占用的总区域。首先指定阵列中引用的数量和总角度。引用之间的间距将被计算出来。如果设计有可能变化，请使用“范围”放置方法，因为引用之间的间距将根据设计意图更新。