阵列特征

可以在阵列中排列零件、曲面和部件特征，以表示孔阵列或纹理、开槽、槽或其他对称排列。在多实体零件中，可以将一个实体阵列化为多个实体。在部件中创建焊接准备和加工特征时，阵列非常有用。

为阵列选定的特征不需要在几何上完全相同或关联。但是，对于次特征（拐角、圆角、倒角、删除面、曲面边的倒角或曲面边的圆角），仅在选择其父特征后，它们才会被阵列。

可以按照指定的数量和间距在行和列中排列特征，并可以抑制个别特征。单向路径或双向路径（开放回路或封闭回路）都可以由直线、圆弧、样条曲线或修剪的椭圆构成。

只要约束和 iMate 包含在阵列中，它们便可保留下来。某些约束可能不会保留下来，必须重新应用。

在阵列中，特征的所有引用为一个特征，但在浏览器中单个引用将列在该阵列特征图标下。阵列中新实体的所有引用均为单个实体。在浏览器中，实体将列在该阵列特征图标下。可以抑制或恢复所有引用或单个引用。

注：阵列部件特征时，将根据特征阵列的原始包容盒自动选择参与件（受特征影响的零部件）。在某些情况下，可能会导致自动选择多于完成阵列特征所需数目的参与件。删除不需要的参与件可以提高特征性能。

可以为阵列选择的特征

注：

阵列化定位特征以协助构造用于骨架造型的零件，或者为部件零部件阵列定义阵列布局。阵列化曲面特征创建多个构造曲面以用作终止曲面。阵列化对称曲面集以在缝合特征或灌注特征中使用从而形成实体。

使用阵列定位特征和曲面特征的工作流：

具有定位特征和实体特征（以类似方式阵列）的零件
用户希望创建多个工作轴，这些工作轴都偏移孔阵列的轴。工作流：对孔和偏移轴的单个引用进行造型，然后通过一个步骤阵列孔和轴。然后，使用工作轴创建特定的装配约束。
具有定位特征（沿草图路径）的多个引用的零件
沿路径创建工作点阵列。工作流：对包含草图路径和路径上的工作点的零件进行造型。然后使用矩形阵列沿路径创建工作点的多个引用。在部件环境中，相对于原始工作点约束零部件。然后，使用部件的“关联阵列”来阵列零部件。
具有多个曲面特征的对称零件
创建多个构造曲面的镜像以形成实体零件。工作流：在所需的镜像平面的一侧，使用构造曲面（拉伸、放样、圆角等）对零件的一半进行造型。然后，使用镜像特征，绕镜像平面来镜像构造曲面。然后，可选择曲面与“缝合”或“灌注”特征一起使用以形成实体。

若要设置镜像平面，可以选择曲面或构造曲面的工作平面或平整面。

有关阵列化定位特征和曲面特征的提示

如果要阵列化的实体具有无法单独阵列化的特征，请将“阵列实体”与“求并”选项一起使用。将零件体和所有关联的特征阵列化单个实体。若要创建包含多个实体的阵列，请将“阵列实体”与“新建实体”选项一起使用。

有关创建整个实体阵列的提示

创建矩形阵列、环形阵列和镜像阵列时，可以使用“阵列实体”选项。
使用“求并”选项阵列的实体包含由阵列前创建的所有实体特征生成的实体。对阵列相关的特征进行重排序将改变阵列实体。例如，如果在阵列后添加圆角，则在阵列前对其进行重排序将在阵列实体中包含该圆角。
整个实体的阵列也可包括定位特征和曲面特征。
（仅适用于镜像）当镜像整个实体时，请使用“删除原始特征”获取包含镜像引用而不包含原始实体的零件。
通过“新建实体”选项创建的特征包括可作为单个实体进行编辑的实体。

若要使阵列围绕其他特征或不规则形状，或者当创建缺少齿的阵列时，请在阵列中抑制特征的引用。您无法在阵列中抑制原始基础特征，或在阵列引用中抑制个别特征。也可以抑制和恢复可见性，并可以在阵列曲面特征上更改不透明性。

可以选择以下三种计算方法之一：

“优化”计算方法将复制并重生成面而不是特征。它可以针对相同方法生成不同的结果。下图显示了使用“完全相同”和“优化”计算方法来阵列带有“贯通”终止类型的拉伸之间的区别：

大型阵列（例如，孔阵列或天窗）有时会花费很长时间来进行计算。

	调整如果引用的大小不同，终止在模型面上的阵列所需的计算时间会更长。引用以其真实比例进行显示。
	完全相同您可以通过指定阵列中所有特征有完全相同的终止方式来提高阵列计算速度。与面相交决定了每个特征的大小，但是它们全部显示为完全相同。

矩形阵列和沿不规则线性路径排列的阵列有三个特征定位选项。尝试使用各种选项以确定最有用的方向。

要获得最佳结果，请将第一个特征置于路径的起点。特征相对于起点的偏移具有增大的旋转。

可以单独阵列化其他阵列的定位特征和曲面特征引用。可以创建包含原始阵列的所有定位特征或曲面特征引用的嵌套阵列。

对于嵌套阵列，可以选择所有定位特征或曲面特征引用，也可以只选择阵列本身。嵌套阵列包含原始阵列的所有引用，即使引用数量发生了变化。

阵列中不能包含部件定位特征。