在矩形阵列中排列对特征或实体的引用。
复制一个或多个 特征 或实体。按照矩形阵列中的特定数量和间距，或者沿单向或双向的线性路径，来排列生成的引用。行和列可以是直线、圆弧、样条曲线或修剪的椭圆。
访问
功能区：
“三维模型”选项卡
“阵列”面板
“矩形”
形成各个特征阵列 -
形成各个实体特征、定位特征和曲面特征阵列。无法形成部件定位特征阵列。
特征 -
选择一个或多个要包括在阵列中的实体特征、定位特征和曲面特征。在阵列中选择多个特征进行复制会增加计算时间。
仅当父特征也被选中时，才能包括精制特征（例如圆角和倒角）。
实体 -
零件文件包含一个以上的实体时可用。选择接收该阵列的实体。
形成实体阵列 -
形成实体阵列，包括不能单独形成阵列的特征。也可以包括定位特征和曲面特征。
在部件中不可用。
- 包括定位/曲面特征
-
指定一个或多个要形成阵列的定位特征或曲面特征。
- 实体
-
文件中有多个实体时可用。选择一个要包含在阵列中的实体。
求并 -
将阵列附着到选定的实体上。形成单个、统一的实体阵列。
- 创建新实体
-
创建包含多个独立实体的阵列。
方向1
在选定边、轴或路径定义的方向上对齐选定的特征。
方向 -
选择要在其中添加引用的方向。方向箭头的起点位于选择点。路径可以是二维或三维直线、圆弧、样条曲线、修剪的椭圆或边。路径可以是开放回路，也可以是闭合回路。
对路径的修改将更新阵列特征的间距和距离。
反向 -
反转引用的方向。如果选择“中间面”并且引用数量为偶数，则指示获取额外引用的一侧。
中间面 -
创建一个阵列，从中可以在原始特征的两侧分布引用。对于矩形阵列，可以为任一方向（方向 1，方向 2）单独使用中间平面。
数量 -
指定列或线性路径中引用的数量。必须大于 0。
长度 -
指定引用之间的间距或距离，或“方向 1”列跨越的距离。可以输入负值来创建相反方向的阵列。
- 距离、间距或曲线长度
-
指定“方向 1”列的总距离、引用间的间距，或者平均排列的选定曲线的长度。必须大于 0。
方向 2
与列一样，指定行中排列多个引用。
- 路径
-
在行中选择要在其中添加引用的方向。方向箭头的起点位于选择点。路径可以是二维或三维直线、圆弧、样条曲线、修剪的椭圆或边。路径可以是开放回路，也可以是闭合回路。
对路径的修改将更新阵列特征的间距和距离。
- 反向
-
反转引用的方向。如果选择“中间面”并且引用数量为偶数，则反向指示获取额外引用的一侧。
- 中间面
-
创建一个阵列，从中可以在原始特征的两侧分布引用。对于矩形阵列，可以为任一方向（方向 1，方向 2）单独使用中间平面。
数量 -
指定列或线性路径中引用的数量。必须大于 0。
- 长度
-
指定引用之间的间距或距离，或“方向 2”列跨越的距离。如果为负值，则在相反方向创建阵列。
- 距离、间距或曲线长度
-
指定“方向 2”列的总距离、引用间的间距，或者平均排列的选定的曲线的长度。必须大于 0。
（更多）
指定阵列的“开始”、“终止方式”和“定位方式”。
- 方向 1 和方向 2
-
开始设置两个方向上的第一个引用的起点。如果需要，阵列可以任何一个可选择的点为起点。
- Compute
-
指定如何计算阵列特征。
优化 通过阵列特征面来创建选定的特征的完全相同的副本。“优化”是最快的计算方法，限制为无法创建重叠引用或与不同于原始特征面的面相交的引用。如果可能，可加快阵列计算速度。
完全相同 通过复制原始特征的结果来创建选定的特征的完全相同的副本。不能使用优化方法时，可使用此项来获得完全相同的特征。
调整 通过阵列特征并分别计算每个阵列引用的范围或终止方式，来创建可能不同的选定特征的副本。对于具有大量引用的阵列，计算时间会延长。通过使阵列引用可以根据特征范围或终止条件（例如终止于模型面上的特征）进行调整，来保留设计意图。
注： 不适用于处于开放或表面状态的实体零件实体的阵列。 - 定向方式
-
指定如何定向阵列特征。第一个选定的特征将确定方向。
完全相同 阵列中每个引用的定位方式都和选定的第一个特征的定位方式相同。
调整为方向 1 或方向 2 指定控制阵列特征的位置的方向。对每个引用进行旋转，使其根据所选的第一个特征将方向保持为路径的二维相切矢量。角度随该阵列中的每个引用而增大。要获得最佳结果，请将第一个引用置于路径的起点。