从工具栏中也可访问该菜单中的项目。
通过允许出于变形目的围绕 UV 创建晶格,将 UV 的布局作为组进行操纵。
为当前晶格操纵器指定列数。最小列数为 2,最大列数为 8。
为当前晶格操纵器指定行数。最小行数为 2,最大行数为 8。
指定晶格操纵器的影响级别或衰减值。
如果启用该选项,那么当前晶格操纵器就无法延伸过外部边或目标几何体的边界。
晶格捕捉设置与受晶格影响的每个 UV 相关。需要在“UV 纹理编辑器”(UV Texture Editor)中启用“像素捕捉”(Pixel Snap)(“图像 > 像素捕捉”(Image > Pixel Snap)),“UV 晶格工具捕捉设置”(UV Lattice Tool Snap Settings)才会有效果。
如果启用该选项,UV 晶格变形器的控制点就会捕捉到每个 UV 的角。
如果启用该选项,UV 晶格变形器的控制点就会捕捉到每个 UV 的中心。
将选定 UV 及其相邻 UV 的位置移动到用户定义的一个缩小的范围。
选择 UV 跟随笔刷工具的方式。
按“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷移动的方向移动选定 UV。UV 看起来跟随笔刷或随笔刷移动。该设置移动 UV 的方式与“软修改工具”(Soft Modification Tool)移动顶点的方式类似。
按“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷移动的方向拖动或涂抹 UV。
选择 UV 移动随着笔刷移动衰减的方式。
基于 UV 与“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷的距离移动 UV。UV 以指数方式移动得越多,它离笔刷就越近。
基于 UV 与“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷的距离移动 UV。UV 以线性方式移动得越多,它离笔刷就越近。
按“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷移动的方向将所有 UV 移动相同的数量。
设定“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷的大小。
在“UV 纹理编辑器”(UV Texture Editor)的视图中,也可以按 b 并拖动来调整“涂抹工具”(Smudge Tool)笔刷的大小。
设定涂抹的幅值,并指定“UV 涂抹工具”(UV Smudge Tool)笔刷对选定 UV 影响的程度。
仅当选定的“效果类型”(Effect Type)为“涂抹”时,该选项才可用。
如果启用该选项,按住鼠标中键 () 并拖动可涂抹 UV 的布局。如果禁用该选项,通过拖动即可涂抹 UV 的布局。
通过在壳上选择单个 UV,使用该选项可在“UV 纹理编辑器”(UV Texture Editor)的 2D 视图中选择并重新定位 UV 壳。可以自动防止已重新定位的 UV 壳与其他 UV 壳重叠。另请参见 UV 纹理编辑器工具栏。
当“禁止重叠”(Prevent overlap)处于启用状态时,将已重新定位的 UV 壳与其他现有 UV 壳隔开的距离指定为贴图大小的百分比。
指定当平移一个或多个 UV 时,为了以最佳方式获得“壳间距”(Shell spacing)距离而不捕捉回到原始位置,该工具在开始位置和结束位置之间检查的次数。值越大,就越有可能产生最接近的结果,但完成移动所花费的时间也越长。选定 UV 壳的数量也会影响用于完成移动的时间。默认设置为 16。
使用该选项可以按交互方式展开或松弛 UV。选择一组 UV,然后将“展开”(Unfold)或“松弛”(Relax)控件拖动到右侧。详细信息请参见优化 UV 或展开 UV 网格。
如果启用该选项,那么移动“展开”(Unfold)或“松弛”(Relax)控件时,选定 UV 集的边界 UV 将不会移动。
使用该选项可以调整在“UV 空间”(UV Space)或“世界”(World)空间中是“展开”(Unfold)还是“松弛”(Relax) UV。
用于在“UV 纹理编辑器”(UV Texture Editor)中重新定位 UV,无需使用操纵器。请参见调整 UV。