微芯片封装分析类型和分析技术

下表显示了适用于微芯片封装分析类型的分析技术。

执行中性面或双层面分析时,有两种求解器可供选择:

可以使用的分析序列取决于正在使用的网格类型。

微芯片封装工艺和分析类型
分析类型 分析技术
填充 中性面 双层面
填充+保压(或流动) 中性面 双层面 3D
填充+保压(或流动)+金线偏移 中性面 双层面 3D
金线偏移详述 3D
填充+保压(或流动)+晶片位移 中性面 双层面 3D
填充+保压+动态晶片位移 3D
填充+保压(或流动)+金线偏移+晶片位移 中性面 双层面
填充+保压+动态晶片位移+金线偏移 3D
填充 + 保压 + 翘曲 中性面 双层面 3D
翘曲1 中性面 双层面 3D
流道平衡 中性面 双层面
排气(“工艺设置”选项) 3D
冷却 (FEM) 3D
冷却 (FEM)+填充+保压 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+金线偏移 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+金线偏移详述 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+晶片位移 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+动态晶片位移 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+晶片位移+金线偏移 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+动态晶片位移+金线偏移 3D
冷却 (FEM)+填充+保压+翘曲 3D
1 要完成中性面或双层面分析技术的翘曲分析,必须选择包括“可压缩”求解器的分析序列。