建立日光設定時，您可從下列類型中進行選擇。
產生單一影像，展示在指定日期和時間中，陰影在專案位置的情況。
例如，您可以檢視在加州舊金山 6 月 22 日中午專案的陰影樣式。
產生動畫，展示在指定日期、時間範圍和間隔時間中，陰影在專案位置的移動情況。
例如，您可以追蹤在英國倫敦 6 月 22 日早上 8 點到下午 5 點間，陰影在專案內每小時不同的景象。
產生動畫，展示在指定日期範圍、時間 (或時間範圍) 和間隔時間中，陰影在專案位置的移動情況。
例如，您可以檢視在中國上海 6 月 1 日到 6 月 30 日專案每天下午 1 點的陰影樣式。您也可以為此專案產生設定，展示相同天數範圍的早上 10 點到下午 2 點的每個小時陰影樣式。
產生的單一影像會展示從作用中視圖內特定日光位置所投射出來的陰影，陰影並非根據專案位置、日期和時間上的日光位置所產生。
例如，您可以在立面視圖上投射 45 度陰影，然後可將該視圖用於彩現。
選擇人造日光位置的預置，例如「日光來自右上方」，或是輸入「方位角」和「高度」的值，以指定日光位置。「相對於視圖」選項可讓您將太陽定向至與視圖方位或模型方位相符的方位。