此下拉列表包含 TurtleDefaultBakeLayer,以及您已创建的任何其他层。(请参见设置要使用 Turtle 进行烘焙的层。)
在 Maya 中工作时,所有烘焙操作都在此当前活动的烘焙层执行。
系统将更新 Baking 选项卡中显示的所有其他设置以显示该当前烘焙层的设置。
使用这些设置可以指定要为当前层烘焙到哪些对象。
启用时,将烘焙在场景视图中选定的对象,从而覆盖在当前烘焙层中设置的对象。您可以同时选择多个要烘焙的对象。当前烘焙层的烘焙设置仍用于烘焙。(在该模式中不支持曲面传递。)
使用该选项可添加要烘焙到的曲面。单击 Add Selected 可将曲面添加到列表中。单击 Remove Selected 可移除列表中的曲面。单击 Clear All 可清除列表。
如果“曲面传递”(Surface Transfer)已请求,您就可以在其中为每个目标曲面添加到源曲面的链接。要建立从目标曲面到源曲面的新链接,首先要在“目标曲面”(Target Surfaces)列表中标记出目标曲面。然后选择源曲面并单击 Add Selected。单击 Remove Selected 以从列表中移除链接,然后单击 Clear All 清除所有链接。
选择下列三种模式之一:
查找高分辨率曲面上的最近点。
考虑封套网格内部的高分辨率曲面上的相交点。
考虑封套网格外部的相交点。
设置搜索源曲面时将在目标曲面之前跟踪的最大距离。如果在前后都找到曲面,则使用最接近的一个。
设置搜索源曲面时将在目标曲面之后跟踪的最大距离。如果在前后都找到曲面,则使用最接近的一个。
设置搜索源曲面时前/后探测光线原点的偏移距离。该距离也可以为负值,表示相反方向的偏移。
选择对象应从世界空间还是对象空间采样。如果对象在世界空间中,它们必须放置在同一位置,这与对象空间正好相反,举例来说,在对象空间中,目标和源对象可以并列放置,只要各自的对象空间相匹配即可。
选择最近的曲面并在方向相反时翻转法线。
着色并返回低分辨率相交处的颜色。
(默认情况下启用。)使用此选项可以选择在高分辨率曲面和低分辨率曲面的法线出现不一致(指向相反的方向)的情况下忽略相交处。然后继续进行搜索,直到找到具有一致法线的曲面(或找不到任何曲面)。这有助于您在有前向和后向曲面的区域(例如角色的耳朵周围或腋窝)拾取正确的曲面相交处。
传递曲面时,Turtle 默认为仅采样第一个曲面相交点。如果您有一组应积累的透明对象,请打开“考虑透明度”(Consider Transparency)。
确定 Turtle 何时将穿过半透明曲面继续采样。
这些设置适用于纹理和顶点烘焙。
控制烘焙时要使用的摄影机。
控制要烘焙对象的法线应该指向哪个方向。如果法线背对摄影机,则烘焙将完全为黑色。选择下列三个选项之一:
翻转所有法线。
控制是否按摄影机或虚拟正交摄影机指定的方向发送二级光线。虚拟正交摄影机直接放置在待着色点的正上方并直接面向该点。
启用阴影烘焙。
控制是否保存 Alpha 通道。
启用后,Turtle 将仅烘焙从摄影机可见的纹理。
设置背景色。所有未采样的 Texel 或顶点都会获得该颜色。
这些设置仅适用于纹理烘焙。
控制如何处理在一个烘焙层有多个对象的情况。启用时,所有对象将烘焙到同一贴图。禁用时,对象将烘焙到单独的贴图。
将图像存储在 Texture Baking View 中,使其保存在拖动栏中已保存图像的集合中。
将图像存储在通过 Directory 和 File Name 指定的目录中。
要存储已烘焙纹理的目录。
已烘焙纹理的名称。使用以下预定义的变量来构造文件名:
在文件名中找到这些变量时,会将它们替换为相应的文字字符串。例如:
“lightmap $m $s.$e”会转换为“lightmap lambert1SG meshShape1.tif”
“lightmap $t.$f.$e”会转换为“lightmap mesh1 meshShape1.42.tif”
“normalmap $s $u.$e”会转换为“normalmap meshShape1 uvSet1.tif”
设置存储已烘焙纹理将使用的格式。支持的格式包括 TGA、OpenEXR、TIFF、TIFF16、TIFF32、MAYA IFF、OpenEXR MultiLayer、Windows 位图和 PNG。
启用以自动生成 ilrHwBakeVisualizer 节点,并在烘焙后完成连接到目标对象的曲面着色器“硬件着色器”(Hardware Shader)属性。将为每个烘焙纹理生成文件纹理节点,并将节点连接到 ilrHwBakeVisualizer 节点的对应输入。要从硬件着色器获得正确的输出,请确保面板菜单中的“着色 > 硬件纹理”(Shading > Hardware Texturing)处于启用状态。
顶点烘焙是一项在游戏和其他实时应用程序中常用的技术,其中会将照明保存到网格中的每个顶点。下面介绍仅适用于顶点烘焙的设置。
选择顶点烘焙所使用的采用模式。
每个多边形顶点采样一次。
每个三角形采样多次并将结果累积到顶点。采样数自适应调整,并取决于三角形的大小。
设置将 Sampling Mode 设置为 Triangle Subdiv 时为每个三角形进行的最小采样数。
设置将 Sampling Mode 设置为 Triangle Subdiv 时为每个三角形进行的最大采样数。
用于针对每个顶点颜色将采样点进行小幅度移动。采样点从顶点向多边形的中心移动。如果设置为 0.0,则采样点正好位于顶点处,如果设置为 1.0,则采样点位于多边形的中心。这对于减少烘焙到顶点时出现的最终聚集瑕疵非常有用。
启用时,已烘焙顶点颜色将保存到网格中的颜色集。
启用时,将覆盖现有颜色集。(如果不存在现有颜色集,将创建新的颜色集)。
烘焙时使用的顶点颜色集的名称。如果未指定,Turtle 将使用当前颜色集。如果找不到指定颜色集,将创建一个新的颜色集。使用以下变量来构造名称:
在名称中找到这些变量时,会将它们替换为相应的文字字符串。例如:
“baked $p $s”将生成“baked tpIllumination meshShape1”
“$b $p”将生成“ilrBakeLayer1 tpIndirectIllumination”
如果启用,则烘焙顶点颜色将保存到点云文件中。稍后可以使用命令 ilrImportVertexColorsCmd,将顶点颜色点云导入并指定给网格。在多台计算机上批处理顶点烘焙作业时,这将非常有用。
存储文件的目录。
文件名模式。该名称通过以下预定义变量组合而成:
在名称中找到这些变量时,会将它们替换为相应的文字 80 字符串。例如,“baked $p $b.pc”会转换为“baked tpIllumination bakeLayer1.pc”。如果使用“.xml”作为扩展名,将会使用点云 XML 格式保存文件。否则,文件将保存为点云二进制格式。
控制是否应使用以及如何使用混合。
禁用混合和新颜色将替换现有的任何颜色。
如果存在名称相同的颜色集,则会将新颜色与旧颜色混合。
如果与多个输出过程一起使用,则会在过程之间进行混合,创建一个新的颜色集。
控制要使用哪一种混合模式。
将旧颜色替换为新颜色。
将新颜色加到旧颜色中。
从旧颜色中减去新颜色。如果结果小于零,则会将结果钳制为零。
用旧值乘以新值。
用旧值除以新值。
新旧颜色的平均值。
不执行任何操作。要重新烘焙 Alpha 以外的颜色时很有用。
使用给定的比例因子调整 RGB 和 Alpha 值的比例。
启用时,会将 RGB 和 Alpha 值钳制为给定的 RGB Min / RGB Max 和 Alpha Min / Alpha Max。
启用顶点值过滤可以产生更平滑的外观。
将过滤器内核的大小,要在对象大小的范围内。0.0 表示没有过滤,1.0 表示将“过滤器大小”设置为“对象大小”。
设置过滤器的形状,这会影响过滤的外观。值越大,过滤的范围越广。
设置在过滤器忽略顶点之前,顶点的法线可以偏离的大小。以度为单位给定。
可用于控制 Turtle 创建哪些烘焙过程。如果启用了多个过程,Turtle 将渲染多个纹理(或顶点颜色集)。
可用于将各种组件从着色器输出到单独的过程。
创建法线贴图时设置法线的坐标系统。
生成的贴图将在切线空间中。创建的切线空间可以通过改变“选项”(Options)选项卡的“纹理烘焙设置”Texture Baking Settings中的切线覆盖进行更改。
在对象空间中生成贴图。
在世界空间中生成贴图。
将置换调整到 [0,1] 的范围内。
调整采样的置换值的范围。可用于将置换贴图值设置在有效范围内。
添加采样的置换值的偏移。可用于将置换贴图值设置在有效范围内。
通过该方法可以快速进行动态遮挡,而只需四个 8 位 RGBA 纹理通道用于存储。
启用时,可以设置选项并烘焙平行光遮挡贴图。
聚集照明时使用的最小采样数。
指数在计算期间使用,用于定义遮挡值的“锐度”。值越高,产生的效果越明显。
基础向量用于四种不同的通道。
对于该技术,我们在切线空间中定义了四个向量。每个向量对应生成的纹理的一个颜色通道,用作曲面法线向量来计算遮挡值。
烘焙光能传递法线贴图 (RNM) 将产生三种纹理,每种纹理都包含根据三条 RNM 法线中的一条计算的入射光相关的信息。RNM 可以强力采样,也可以使用最终聚集通过缓存类型辐射度缓存采样。使用该缓存通常渲染更快、质量更高。
启用时,可以设置选项并烘焙光能传递法线贴图。
启用时,Turtle 会尝试将 RNM 为曲面法线计算的强度与使用标准照明贴图获取的强度值匹配。网格上的不同切线空间在 RNM 中生成接缝时,会使用该函数。
要聚集照明的类型。
聚集照明时使用的最小采样数。此值仅用于强力模式。
烘焙多项式纹理贴图 (PTM) 将生成二元二次多项式的许多系数,该二元二次多项式用于近似半球体上的入射光函数。当烘焙 PTM 时,输出文件格式必须设置为能够存储浮点值的格式(OpenEXR、OpenEXR MultiLayer 或 TIFF32)。还要确保在 Anti-Aliasing 设置中禁用输出的钳制功能。
启用时,可以设置选项并烘焙多项式纹理贴图。
聚集照明时使用的最小采样数。
要聚集照明的类型。
确定是要使用聚集照明的强度来生成一个 PTM,还是为每个颜色通道生成一个 PTM。
可以生成包含球形谐波系数的纹理。
由于这些系数的值可以超出范围 [0; 1],因此针对 PTM 的建议同样适用:使用浮点型纹理(OpenEXR,OpenEXR MultiLayer 或 TIFF32)并禁用任何钳制。
用于球形谐波基础函数的波段数。实际使用的基础函数数的数量等于波段数的平方 (nBands2) 所得的值。
聚集照明时使用的最小采样数。
要聚集照明的类型。
收集信息的空间类型。
设置是使用聚集照明的强度生成一组 SH 系数,还是为每个颜色通道生成一组 SH 系数。
您可使用 Lua 对您自己的烘焙输出进行脚本编辑和自定义。请注意,用于 ilrLuaNode 的脚本和用于 Lua 烘焙过程的脚本存在差异。