Studio 增强功能
针对基于图像的光源 (IBL) 的全新支持
Inventor Studio 中的所有光源样式现在与 IBL 相关联。IBL 提供了更好的光源。
Inventor Studio 现在支持造型环境中基于图像的光源。若要从造型光源环境进行渲染，请使用“视图”选项卡上提供的命令，然后使用 Studio“渲染图像”对话框中的“当前光源”，或者从“渲染图像”对话框更改为其他光源样式。
全新的 2016 IBL 光源样式功能
- IBL 提供关联
- 背景启用/禁用
- 支持附加光源
高级渲染引擎 RapidRT 提供了新的渲染配置
- 持续时间/迭代次数/无限制模式
- 光源和材料精度模式
过时选项已删除：
- 场景样式：在“视图”选项卡中指定的“地平面”和阴影效果设置现在显示在 Inventor Studio 的渲染模型中。
- Studio 渲染插图设置已移至“视图”选项卡
“外观”面板 “视觉样式”下拉菜单。新的“技术插图”命令可在图形窗口中创建逼真的插图效果。
最终渲染结果中显示地平面和阴影效果
在“视图”选项卡中指定的地平面和阴影效果设置现在将显示在渲染模型中。
图形增强功能
增强的“着色”视觉样式显示效果现在与“真实”视觉样式更加一致。增强了着色视图的视觉效果。下面的两个图比较了在版本 2015 和 2016 中使用着色视图的结果。高渲染性能依旧保持不变。
技术插图视觉样式
Studio 渲染插图设置已移至“视图”选项卡 “外观”面板 “视觉样式”下拉菜单。新的“技术插图”命令可在图形窗口中创建逼真的插图效果。
全新的 IBL 样式
在“视图”选项卡 “外观”面板 “光源样式”菜单中添加了 11 种全新的光源样式。其中包括“昏暗的天空”、“灰色的房间”、“无边际泳池”、“照相亭”、“宁静蓝”、“锐化高光”、“边缘高光”、“冷光灯”、“暖光灯”、“柔光灯”和“格栅灯”。
对光线跟踪的更改
- 光线跟踪模式已更改为“低”、“草稿”和“高”以指示光源和材料精度。
- 对进度状态栏进行了更改，现在可显示质量度量指标而非进度百分比。
- 您现在可以在光线跟踪过程中随时保存图像。
工程图中的视觉增强功能
通过工程图“文档设置”对话框中的新“反射环境”设置，您可以在工程图 (.idw) 文件中应用镜面光效果并指定反射图。
