使用光度学灯光时,会显示此“常规参数”卷展栏。这些控件用于启用和禁用灯光,并且排除或包含场景中的对象。通过它们,您还可以设置灯光分布的类型。
在“修改”面板上,“常规参数”卷展栏也控制灯光的目标对象并将灯光从一种类型更改为另一种类型。
“常规参数”卷展栏也用于对灯光启用或禁用投射阴影,并且选择灯光使用的阴影类型。
要启用和禁用灯光:
默认设置为启用。
要使灯光投射阴影,请执行以下操作:
现在当渲染场景时灯光将投射阴影。
左:采用聚光灯分布,投影锥体可截断阴影。
右:采用统一球形分布,灯光可以投射完整阴影。
要使灯光使用阴影的全局设置,请执行以下操作:
启用“使用全局设置”后,其他阴影控件设置为场景中所有其他投射阴影的灯光使用的值,而该场景已设置“使用全局设置”。
使用“使用全局设置”更改一个灯光的影响参数,使用“使用全局设置”更改所有灯光的影响参数。
要分别设置灯光的阴影参数,请执行以下操作:
该设置还原为灯光的单个设置。
默认情况下,阴影贴图是活动的阴影类型。在“阴影贴图参数”卷展栏中,默认设置为:贴图偏移 = 1、大小 = 512、采样范围 = 4.0,绝对贴图偏移 = 禁用。
带有阴影贴图阴影的场景
使用默认参数设置渲染的阴影
要投影区域阴影,请执行以下操作:
使用“区域阴影”卷展栏上的控件调整阴影属性。
要投影高级光线跟踪阴影,请执行以下操作:
高级光线跟踪阴影与光线跟踪阴影类似,但是高级光线跟踪阴影提供对抗锯齿的控制,可以微调阴影的生成方式。
使用“高级光线跟踪参数”卷展栏上的控件调整阴影属性。
要投射阴影贴图的阴影,请执行以下操作:
要投影光线跟踪阴影,请执行以下操作:
光线跟踪阴影是通过跟踪从光源进行采样的光线路径生成的。光线跟踪阴影比阴影贴图阴影更精确。
要使对象不投射阴影,请执行以下操作:
显示“对象属性”对话框。
现在当渲染场景时,该对象不投射阴影。
要使对象不接收阴影,请执行以下操作:
显示“对象属性”对话框。
现在当渲染场景时,该对象不接收阴影。
在视口中,交互式渲染器显示启用或禁用灯光的效果。
当启用“使用全局设置”后,切换阴影参数显示全局设置的内容。该数据由此类别的其他每个灯光共享。当禁用“使用全局设置”后,阴影参数将针对特定灯光。
每一种阴影类型都有其特定控件:
排除的对象仍在着色视口中被照亮。只有当渲染场景时排除才起作用。
选择此选项,“分布(光度学文件)”卷展栏显示在“命令”面板上。
选择此选项,“分布(聚光灯)”卷展栏显示在“命令”面板上。
无论是漫反射还是球形的统一分布都未提供其他设置,因此这些选择不会显示特殊的“分布”卷展栏。