[UVW を編集](Edit UVWs)ダイアログ ボックスに含まれる複数のロールアウトでは、テクスチャ座標を編集するためのさまざまなツールが提供されています。これらの中には、手順を追って UVW を変換およびサブディバイドするためのツールがあり、より効率的なテクスチャ編集のための便利なショートカットをアーティストに提供します。
[UVW を編集](Edit UVWs)ダイアログ ボックスのロールアウトはダイアログ ボックスの右側に縦に並んでおり、コマンド パネルのロールアウトと同じように、開いたり、閉じたり、スクロールしたりできます。
UVW サブオブジェクトの変換は、マウスで上部のツールバーにあるツールを使用して行うことも、これらのツールを使用して手順に従って行うこともできます。

基点を設定(Set Pivot)
ギズモの外側に移動されたフリーフォーム基点
水平に位置合わせ(Align Horizontal)
[水平から軸に位置合わせ](Align Horizontally to Pivot): 選択したサブオブジェクトを水平に位置合わせし、基点の位置まで垂直に移動します。
[その場で水平に位置合わせ](Align Horizontally in Place): 選択したテクスチャの(ポリゴンではなく)一連の接続されている各頂点とエッジを水平に位置合わせし、垂直方向の平均位置に移動します。

左: 最初に頂点を選択した状態
右: 水平に位置合わせした後
エッジ レベルでは、[Shift]キーを押しながらボタンをクリックすると、選択したすべてのエッジがループされ、これらのエッジのすべてのエッジ ループが水平に位置合わせされます。この場合は、並べたいエッジ ループごとに 1 つのエッジを選択するだけで済ませることができます。UV シーム エッジ ループを位置合わせすることもできます。

左: エッジの初期選択
右: [Shift]キーを押しながら[その場で水平に位置合わせ](Align Horizontally In Place)を実行した後
垂直に位置合わせ(Align Vertical)
[垂直から軸に位置合わせ](Align Vertically to Pivot): 選択したサブオブジェクトを垂直に位置合わせし、基点の位置まで水平に移動します。
[その場で垂直に位置合わせ](Align Vertically in Place): (ポリゴンではなく)選択した一連の接続されている各頂点とエッジを垂直に位置合わせし、水平方向の平均位置に移動します。
エッジ レベルでは、[Shift]キーを押しながらボタンをクリックすると、選択したすべてのエッジがループされ、これらのエッジのすべてのエッジ ループが垂直に位置合わせされます。この場合は、並べたいエッジ ループごとに 1 つのエッジを選択するだけで済ませることができます。UV シームのエッジ ループも並べられます。

エッジの位置合わせ
1.エッジ リングの初期選択
2.[Shift]キーを押しながら[その場で垂直に位置合わせ](Align Vertically in Place)を実行した後
3.エッジ リングの初期選択
4.[Shift]キーを押しながら[その場で水平に位置合わせ](Align Horizontally in Place)を実行した後
線形位置合わせ(Linear Align)
左: エッジの初期選択
右: [線形位置合わせ](Linear Align)の使用後
エッジに位置合わせ(Align to Edge)
左: クラスタの上部境界で選択したの 1 つのエッジのクローズアップ
右: エッジが水平に回転され、クラスタ全体が同じ大きさだけ回転する。
基点を中心に -90 度回転(Rotate -90 around Pivot)
基点を中心に 90 度回転(Rotate 90 around Pivot)
水平に間隔(Space Horizontally)たとえば、同じ幅のテクスチャ ポリゴンの水平ループを作成するには、最初にポリゴンの上と下の水平エッジ ループを選択した後、[水平に間隔](Space Horizontally)をクリックします。

左: エッジ ループの初期選択
右: [水平に間隔](Space Horizontally)を使用した後。各ループ内の頂点が等間隔になっています。
[水平に間隔](Space Horizontally)はエッジ レベルで使用するのが最適です。頂点レベルでも動作しますが、頂点の選択を内部的にエッジに変換します。したがって、頂点レベルで使用したときに曖昧な結果になるのを防ぐため、選択した頂点の単一のループで使用してください。
エッジ レベルでは、[Shift]キーを押しながらボタンをクリックすると、[水平に間隔](Space Horizontally)は選択した各エッジが属しているエッジ ループに対して適用されます。この場合は、間隔を統一したいエッジ ループごとに 1 つのエッジを選択するだけで済ませることができます。また、UV シーム エッジ ループにも適用されます。

左: エッジ リングの初期選択
右: [Shift]を押しながら[水平に間隔](Space Horizontally)を使用して各エッジのループを等間隔にした後
垂直に間隔(Space Vertically)たとえば、同じ高さのテクスチャ ポリゴンの垂直ループを作成するには、最初にポリゴンの左側と右側の垂直エッジ ループを選択した後、[垂直に間隔](Space Vertically)をクリックします。
[垂直に間隔](Space Vertically)はエッジ レベルで使用するのが最適です。頂点レベルでも動作しますが、頂点の選択を内部的にエッジに変換します。したがって、頂点レベルで使用したときに曖昧な結果になるのを防ぐため、選択した頂点の単一のループで使用してください。
エッジ レベルでは、[Shift]キーを押しながらボタンをクリックすると、[垂直に間隔](Space Vertically)は選択した各エッジが属しているエッジ ループに対して適用されます。この場合は、間隔を統一したいエッジ ループごとに 1 つのエッジを選択するだけで済ませることができます。また、UV シーム エッジ ループにも適用されます。
ブラシ ツールを使用して特定のテクスチャ座標を調整し、マップで歪みを解消または最小化します。

UV ペイントの移動(UV Paint Movement)
ポリゴンの角度でリラックス(Relax By Polygon Angles)
エッジの角度でリラックス(Relax By Edge Angles)
中心でリラックス(Relax By Centers)
ソフト選択の線形フォールオフ(Soft Selection Linear Falloff)
ソフト選択のスムーズ フォールオフ(Soft Selection Smooth Falloff)
ソフト選択の低速フォール オフ(Soft Selection Slow Out Falloff)
ソフト選択の高速フォール オフ(Soft Selection Fast Out Falloff)
選択をストレートにする(Straighten Selection)
左: 初期レイアウト
右: すべてのポリゴンを選択し、[選択をストレートにする](Straighten Selection)を適用して、ポリゴンの選択を解除した後
平坦になるまでリラックス(Relax Until Flat)テクスチャ頂点をリラックス処理すると、間隔をより均等に配置できるため、テクスチャ マッピングが簡単になります。
リラックス : カスタム(Relax: Custom)
リラックス設定(Relax Settings)クラスタ シームのほとんどの UV 頂点とエッジ(つまり、クラスタの外側のエッジ)には、他のクラスタ シームと共有するサブオブジェクトがあります。どちらもオブジェクト メッシュ内の同じサブオブジェクトを表しますが、クラスタ内へのサブディビジョンのため、UV マッピングでは 2 回以上表されます。クラスタ シーム上の選択したサブオブジェクトを、別のクラスタのシーム上の共有サブオブジェクトに接続するには、[ステッチ](Stitch)ツールを使用します。エディタ ウィンドウで共有されているサブオブジェクトを表示するには(既定では青でハイライトされます)、[表示](Display)メニュー
[共有サブオブジェクトを表示](Show Shared Subs)または[アンラップ オプション](Unwrap Options)ダイアログ ボックス
[共有サブオブジェクトを表示](Show Shared Subs)をオンにします。[共有サブオブジェクトを表示](Show Shared Subs)の設定を使用すると、ハイライトされている共有サブオブジェクトの色を変更することもできます。また、頂点レベルで[頂点接続を表示](Show Vertex Connections)をオンにすると、頂点間の接続が正確にわかります。
[ステッチ](Stitch)は頂点レベルおよびエッジ レベルでのみ動作しますが、すべてのサブオブジェクト レベルで使用でき、選択したサブオブジェクトと関連付けられているすべてのシーム ベースの頂点およびエッジに適用されます。1 つの UV 頂点だけが選択され、その頂点に対応する UV 頂点が複数存在する場合、その頂点は最も近くにあるものにステッチされます。それ以外の場合は、[ステッチ](Stitch)で最適な一致が検出されるか、一致が選択解除されている場合は、選択した一致にステッチされます。

ターゲットにステッチ(Stitch to Target)
アベレージにステッチ(Stitch to Average)
ソースにステッチ(Stitch to Source)
ステッチ : カスタム(Stitch: Custom)このツールは、エディタの[ツール](Tools)メニューの[選択をステッチ](Stitch Selected)でも使用できます。
ステッチ設定(Stitch Settings)
1.ステッチ前のテクスチャ頂点
2.[ソースにステッチ](Stitch to Source)
3.[アベレージにステッチ](Stitch to Average)
4.[ターゲットにステッチ](Stitch to Target)
このロールアウトの最初の行のツールは、テクスチャの座標を異なるクラスタに分割するために使用します。[フラット化](Flatten)ツールは、選択されたポリゴンに対して、またはポリゴンが選択されていない場合はすべてのポリゴンに対して動作します。

ブレーク(Break)
ポリゴンの角度によってフラットにする(Flatten by Polygon Angle)設定の説明については、「[フラッテン マッピング](Flatten Mapping)ダイアログ ボックス」を参照してください。
スムージング グループによってフラットにする(Flatten by Smoothing Group)スムージング グループによってフラットにするときは、別のクラスタを形成するために、ポリゴンのグループをハード エッジで完全に囲む必要があります。つまり、ポリゴンが隣接するものとスムージング グループ ID を共有しないようにします。複数のスムージング グループ ID を持つポリゴンがある場合、テクスチャ座標を異なるクラスタに分割できない可能性があります。
マテリアル ID によってフラットにする(Flatten by Material ID)
フラット化 : カスタム(Flatten: Custom)
フラット化設定(Flatten Settings) ([フラット化 : カスタム](Flatten: Custom)フライアウト)ここにある連結コマンドは、[ターゲット連結](Target Weld)を除き、異なるクラスタ上のエッジを位置の平均で連結します。
ターゲット連結(Target Weld)[ターゲット連結](Target Weld)をオンにしてから、1 つの頂点から別の頂点へ、または 1 つのエッジから別のエッジへドラッグします。ドラッグ中に、有効なサブオブジェクトの上に来るとカーソルがクロス ヘアの形に変化します。このコマンドがアクティブな間は、サブオブジェクトの連結を続けて実行できます。また、サブオブジェクト レベルを変更することもできます。[ターゲット連結](Target Weld)モードを終了するには、エディタ ウィンドウ内で右クリックします。
どちらの場合でも、共有頂点またはエッジが含まれているサブ オブジェクトの各ペアを選択する必要があります。[選択の一致を連結](Weld Any Match With Selected)では、各ペアの 1 方のみを選択する必要があります。
[選択サブオブジェクトを連結](Weld Selected Subobject): 現在の[しきい値](Threshold)の距離内で、選択したサブオブジェクトの共有頂点とエッジを結合します(以下を参照)。
[選択されたすべてのシームを連結](Weld All Selected Seams): 選択したすべてのサブオブジェクトの共有頂点およびエッジを結合します。[しきい値](Threshold)の設定は適用されません。
選択の一致を連結(Weld Any Match with Selected): 選択したシームを別のクラスタの対応するシームと連結します。対応するエッジを最初に選択する必要はありません。
連結しきい値の設定: 連結内の半径を、[選択を連結](Weld Selected)を使用して設定し、[選択サブオブジェクトを連結](Weld Selected Subobject) (上記を参照)を実行します。この値では、UV 空間距離が使用されます。既定値は 0.01 です。範囲は 0 ~ 10 です。
[ピール](Peel)ツールにテクスチャ座標のアンラップを行う Unfold3D 方式が組み込まれたことにより、複雑なサーフェスをフラット化する際に簡単で直感的なワークフローを使用できるようになりました。Unfold3D アルゴリズムは、[ピール](Peel)ツールの既定ロールアウトとして、機能するようになりました。また、ロールアウトの左上隅にあるドロップダウン メニューから、従来の LSCM (Least Square Conformal Maps)方式に戻すオプションを使用できます。
新しいロールアウトには、UV のデタッチとパッキング(オーバーラップを回避)を行うツールに加え、ピール機能の[ピン](Pin)アスペクトも含まれています。
新しい進行状況バーには、Unfold3D の処理ステータスも表示されます。
追加のアルゴリズムに関する注意事項:


[ピール](Peel)ツールは、すべてのサブオブジェクト モードで使用できます。アクティブ モードで選択されている場合、選択されているオブジェクトのみがピールされます。何も選択していない場合は、すべての UV 座標がピールされます。
[ピール](Peel)ツールの使用法の簡単な説明については、この手順を参照してください。
クイック ピール(Quick Peel)[クイック ピール](Quick Peel)は、単純なテクスチャ マッピング アプリケーションに適していますが、さらにコントロールを強化する場合は、代わりに[ピール モード](Peel Mode)を使用します(以下を参照)。
ピール モード(Peel Mode)[ピール モード](Peel Mode)がアクティブな間、ピールされたポリゴンは目立つ色を使用するため、テクスチャ座標のどの部分をピールしているのかが簡単にわかります。既定では、紫色です。色を調整するには、[ピール カラー](Peel Color)設定を変更します。
[ピール モード](Peel Mode)をアクティブにすると自動的に[頂点](Vertex)サブオブジェクト レベルに切り替わりますが、どのサブオブジェクト レベルでも[ピール モード](Peel Mode)を使用できます。[デタッチ](Detach)がオンの場合(上記を参照)、[ピール モード](Peel Mode)も同様にピールされたクラスタを他のテクスチャ座標から分離します。
[ピール モード](Peel Mode)がアクティブな場合は、[シームを編集](Edit Seams)および[ポイントからポイント シーム](Point-to-Point Seams)ツールでシームを作成できます。これらのシームは移動時に自動的に「ピール(はがす)」されます。または、エディタで、いくつかのエッジを選択し、[ブレーク](Break)ツールを使用して、エッジを分割し、クラスタを自動的に再ピールします。
[移動頂点を自動ピン止め](Auto-Pin Moved Vertices)がオン(既定値)の場合、[ピール](Peel)モードでサブオブジェクトを移動すると、そのサブオブジェクトに属するすべての頂点はピン止め(ロック)されます。
ピールをリセット(Reset Peel)[ピールをリセット](Reset Peel)を使用して、以前マップされたジオメトリでマップ シームを再接続するか、選択をすばやく分裂し、ピールします。
ピン止めされた頂点は、[ピール モード](Peel Mode)で他の頂点を移動しているときも固定されます(前述参照)。既定では[移動頂点を自動ピン止め](Auto-Pin Moved Vertices)がオンになっているので、[ピール モード](Peel Mode)をアクティブにしてサブオブジェクトを移動した後、その頂点はピン止めされます。
ピン止めされている頂点は、小さな青い正方形のアウトラインで示されます。
選択をピン止め(Pin Selected)
選択をピン止め解除(Unpin Selected)
移動頂点を自動ピン止め(Auto-Pin Moved Vertices)
ピン止め頂点を選択(Select Pinned Verts)これらのツールを使用すると、要素をさまざまな方法で自動的に調整できます。パッキングは、クラスタがオーバーラップしないようにレイアウトを調整する場合に便利です。
[パッキング](Pack)ツールは、1 つ以上のサブオブジェクトを選択した場合は選択したクラスタにのみ適用され、何も選択しない場合はすべてのクラスタに適用されます。

パック : カスタム(Pack: Custom)[パック: カスタム](Pack: Custom)では、[クラスタの再スケール](Rescale Clusters)がオンの場合に[再スケール優先順位](Rescale Priority)の値(後述参照)が使用されます。
[パッキング設定](Pack Settings) ([パック: カスタム](Pack: Custom)ドロップダウン)
要素の再スケール(Rescale Elements)[要素の再スケール](Rescale Elements)では、[再スケール](Rescale)スイッチがオンかどうかに関係なく、[再スケール優先順位](Rescale Priority)の値(後述参照)が使用されます。グループが存在する場合、[要素の再スケール](Rescale Elements)はグループ メンバと選択(または何も選択しない場合はすべてのクラスタ)に常に適用されます。グループが存在しない場合、[要素の再スケール](Rescale Elements)は、1 つ以上のサブオブジェクトを選択した場合は選択されたクラスタにのみ適用され、何も選択しない場合はすべてのクラスタに適用されます。
組合わせでパック(Pack Together)グループが存在し、[再スケール](Rescale)スイッチがオンの場合、[再スケール優先順位](Rescale Priority)の値(後述参照)が使用されます。
平均化してパック(Pack Normalize)グループが存在し、[再スケール](Rescale)スイッチがオンの場合、[再スケール優先順位](Rescale Priority)の値(後述参照)が使用されます。
UVW アンラップ モディファイヤでグループ化すると、パッキング操作中(前述参照)に特定のテクスチャ クラスタをまとめていることを指定できます。グループ化されたクラスタの相対的な再スケールを指定することもできます。

[再スケール優先順位](Rescale Priority)は、指定された条件で次のツールに適用されます。
[再スケール優先順位](Rescale Priority)を使用するには、最初に 1 つ以上のクラスタをグループ化してから(後述の「[選択をグループ化](Group Selected)」を参照)、値を設定します。これで、再スケールに関連する演算を使用するときに、[再スケール優先順位](Rescale Priority)の値がこのグループに乗数として適用されます。
たとえば、いくつかのクラスタをグループ化してから、クラスタの 1 つに属しているポリゴンを選択し、[再スケール優先順位](Rescale Priority)を 0.5 に設定したとします。次に、[再スケール](Rescale)オプションを有効にして、[組合わせでパック](Pack Together)または[平均化してパック](Pack Normalize)をすべてのクラスタに適用します。結果として、そのグループに属するクラスタは、[再スケール優先順位](Rescale Priority)を設定されていない場合のサイズの半分になります。(グループ化されていないクラスタは常にスケール係数 1.0 (100%)を使用します。)
[グループ](Groups)機能は、ポリゴン サブオブジェクト レベルのみで使用できます。グループ化されたクラスタで[組合わせでパック](Pack Together)または[平均化してパック](Pack Normalize)を使用すると、各グループのメンバーの元のスペース関係が維持され、必要に応じて、グループに対する[再スケール優先順位](Rescale Priority)の値と[再スケール](Rescale)オプションの状態に基づいてスケーリングが適用されます。
たとえば、2 つ以上のクラスタがテクスチャ マップの同じ部分を使用するジオメトリの異なるパーツを表しているために重なっている場合は、それらをすべて選択し、[選択をグループ化](Group Selected)をクリックすると、パッキング処理中にそれらのクラスタを分離することができます。
選択をグループ化(Group Selected)グループを作成した後に、グループでポリゴンを選択してグループを選択できるようになります。これを行うと、次の 2 つの機能が有効になります。
選択をグループ解除(Ungroup Selected)
グル-プを選択(Select Group)複数のグループで[グル-プを選択](Select Group)を使用した場合(つまり、異なるグループで複数のポリゴンが選択されている)、グループが 1 つだけ選択されます。どのグループが選択されるかはわかりません。