Studio 增強功能
針對以影像為基礎的照明 (IBL) 的新支援
Inventor Studio 中的所有照明型式現在均與 IBL 關聯。IBL 提供了更好的光源。
Inventor Studio 現在支援塑型環境中以影像為基礎的照明。若要從塑型照明環境中進行彩現，請使用「檢視」頁籤中的指令，然後使用 Studio「彩現影像」對話方塊中的「目前照明」，或從「彩現影像」對話方塊中變更為其他照明型式。
2016 IBL 照明型式新功能
- IBL 提供關聯
- 背景打開/關閉
- 支援增補光源
進階彩現引擎 RapidRT 為彩現提供了新規劃
- 持續時間/迭代/無限模式
- 照明和材料精度模式
移除的舊型選項：
- 場景型式：在「檢視」頁籤中指定的地平面和陰影效果設定，現在顯示在 Inventor Studio 的彩現模型中。
- Studio 彩現插圖設定已移至「檢視」頁籤
「外觀」面板 「視覺型式」下拉式功能表。新的「工業用插圖」指令會在圖形視窗中建立擬真插圖效果。
最終彩現結果中的地平面和陰影效果顯示
在「檢視」頁籤中指定的地平面和陰影效果設定現在會顯示在彩現模型中。
圖形增強功能
增強的「描影」視覺型式顯示效果，現在與「擬真」視覺型式更一致。增強了描影視圖的視覺效果。以下兩個影像比較了在 2015 和 2016 版中使用「描影視圖」的結果。會保持較高的彩現效能。
工業用插圖視覺型式
Studio 彩現插圖設定已移至「檢視」頁籤 「外觀」面板 「視覺型式」下拉式功能表。新的「工業用插圖」指令會在圖形視窗中建立擬真插圖效果。
新 IBL 型式
在「檢視」頁籤 「外觀」面板 「照明型式」功能表中加入了 11 種新照明型式。這些照明型式包括：黑暗天空、灰色房間、無限池、大頭貼、寧靜藍、銳利亮顯、邊緣亮顯、冷光、暖光、柔光和格線光源。
光跡追蹤變更
- 光跡追蹤模式變更為「低」、「草圖」和「高」，以指示照明和材料精度。
- 進度狀態列變更為顯示品質測量而不是百分比進度。
- 在進行光跡追蹤時，您現在可以隨時儲存影像。
圖面中的視覺增強功能
圖面「文件設定」對話方塊中新的反射環境設定，可讓您在圖檔 (.idw) 中套用鏡面效果並指定反射貼圖。
