阵列修改器的“Distribution”卷展栏
“Modify”面板 > 进行选择 >
“Modifier List”>“Object-Space Modifiers”>“Array”
>
“Distribution”
卷展栏
默认菜单:进行选择 >
“Modifiers”
菜单 >
“Modifiers”>“Array”
>
“Distribution”
卷展栏
阵列修改器有四种分布方法:“Grid”、“Radial”、“Surface”和“Spline”。每种分布方法都有一组用于控制克隆的唯一参数。参数根据选定的分布方法动态显示在卷展栏中。
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阵列修改器的“Transform”卷展栏
阵列修改器的“UV”卷展栏
本节内容
阵列修改器分布方法:栅格
“Grid”分布方法会在 1D、2D 或 3D 栅格图案中创建一组统一的克隆。
阵列修改器分布方法:径向
径向分布方法会以与 X、Y 或 Z 轴对齐的环形阵列方式创建克隆。
阵列修改器分布方法:曲面
“Surface”
分布方法使用目标网格的子对象创建克隆。
阵列修改器分布方法:样条线
样条线
分布
方法会沿场景中的目标样条线创建克隆。
父主题:
阵列修改器卷展栏