样条线分布方法会沿场景中的目标样条线创建克隆。
“Modify”面板 > 进行选择 >“Modifier List”>“Object-Space Modifiers”>“Array”>“Distribution”卷展栏 >“Spline”
- 默认菜单：进行选择 >“Modifiers”菜单 >“Parametric Deformers”>“Array”>“Distribution”卷展栏 >“Spline”
界面
- Layout method
- 用于选择沿目标样条线放置克隆的方法。
注： 显示在“Layout Method”下拉列表下方的参数会根据您的选择动态更新。
- Count
- 沿样条线长度分布在“Count X”和“Count Y”参数中指定的克隆数。在以下示例中，“Count X”逐渐增加，直到值达到 8。
- Relative Offset
- 从结点开始，沿样条线长度分布固定数量的克隆。在以下示例中，“Count X”逐渐增加，直到值达到 8。
提示： 如果样条线的厚度为零，请使用“Spacing”参数设置克隆之间的距离。 - Fill
- 沿样条线路径从头到尾分布克隆。
- Knots
- 沿目标样条线分布克隆，在每个结上放置一个克隆。选择特定结时，仅在选定结上放置克隆。
- Segments
- 沿目标样条线分布克隆，在每个分段上放置一个克隆。选择特定分段后，仅在选定分段上放置克隆。
- X/Y/Z
- 单击按钮可沿对象空间中的选定轴定向阵列。
- Pick Spline
- 从场景中选择参考样条线。克隆采用与参考样条线相同的形状。
提示： 选择目标样条线后，可以通过执行下列操作之一选择其他目标样条线：
- 在“Pick Spline”上单击鼠标右键，然后选择“Clear Spline”
- 单击“Pick Spline”，然后选择其他目标样条线
- Strength
- 设置克隆相对于样条线上第一个结的位置。
- Retain Orientation
- 启用后，克隆将保留原始对象的方向。
- Center
- 重新定位阵列，使其以原始对象的原点为中心。
- Flip
- 沿样条线反转克隆的位置和方向。
- Count X/Count Y/Count Z
- 仅在“Layout method”设置为“Count”或“Relative Offset”时，此参数才可用。
- 设置沿 X/Y/Z 轴放置的克隆数。
- Offset
- 以相对克隆尺寸设置到 X/Y/Z 轴上下一个克隆的距离。
- Spacing
- 以显示单位设置 X/Y/Z 轴上各个克隆之间的距离。
- 位置变换方法
-
- Continue
- 在样条线的开始或结束处使用传出向量，并沿同一轨迹继续放置克隆。
- Loop
- （默认）克隆到达样条线路径的末端后，它们将被放回起点，从而形成一个循环。
- End
- 克隆在第一个克隆的位置相互堆叠。
- Remove
- 克隆一旦到达样条线路径的末端就会消失。
- Percent
- 仅在选择“Total Dimension”或“Fill”布局方法时，此参数才可用。
- 沿样条线长度设置克隆的位置。
- Axial
- 仅在选择“Total Dimension”或“Fill”布局方法时，此参数才可用。
- 设置克隆围绕样条线轴的放置。
- Variation
- 仅在选择“Total Dimension”或“Fill”布局方法时，此参数才可用。
- 以样条线长度的百分比随机化克隆的位置。
- Seed
- 为变化值设置随机数种子。
- Pick Surface
- 用于从场景中拾取要将阵列投影到的参考对象。
注： 投影沿样条线的局部 -Z 轴。
- Remove Missed Projections
- 仅在使用“Pick Surface”按钮选择了参考对象时，此参数才可用。
- 未成功投影到参考曲面的克隆将从场景中移除。
- 投影前变换
- 用于在将克隆投影到曲面之前变换克隆的位置。例如，当创建位于不平坦地形上的栅栏立柱阵列时，此选项非常有用。它可以让您随机化立柱的位置，同时确保它们不会移离地形。
- Orientation Bias
- 仅在使用“Pick Surface”按钮选择了参考对象时，此参数才可用。
- 设置克隆将曲面用作其方向法线的量。
- Offset
- 仅在使用“Pick Surface”按钮选择了参考对象时，此参数才可用。
- 设置阵列的宽度。
- Array By Element
- 如果源对象具有多个元素，并且启用了此选项，则可以从以下“Array By Element”方法中进行选择，以控制克隆的排列。
- Random：每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中，使用的参数是“Count X”：8。
- Ordered：元素根据选定方向（X、Y、Z）或克隆 ID 按顺序排列。在以下示例中，茶壶的元素沿 X 轴按顺序显示，在阵列循环切换所有四个元素后重复。使用的其他参数是“Count X”：8。
- First Middle Last：第一个克隆和最后一个克隆保持不变，其余克隆随机排列。在以下示例中，元素 1 是第一个克隆，元素 2 是最后一个克隆。使用的其他参数是“Count X”：8。
注： “First Middle Last”排列要求对象中至少有四个元素才能提供预期的结果。
- Random：每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中，使用的参数是“Count X”：8。
- Center By
- 启用“Array By Element”时，“Center By”也将启用。
- 将 X、Y 和/或 Z 轴上每个克隆的轴设置为其中心。可以同时选择多个轴。
- 当创建由要用作克隆的元素组成的阵列时，这使得沿轴布置各个元素变得容易，这样它们就不需要位于相对于轴的同一位置。禁用后，每个元素使用其相对于源对象轴点的位置。
- Seed
- 为选择要用作克隆的元素设置随机数种子。
- Seed Randomization
- 单击
以随机化种子值。